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公开(公告)号：CN105951058B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201610361332.1
申请日：2016-05-26
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/455 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种基于流化床的纳米颗粒空间隔离原子层沉积设备及方法，其将待包覆的纳米颗粒放入粉体反应腔的中间部分中，粉体反应腔的中间部分在动力源的带动下作间歇性圆周运动，依次经过第一清洗区、吸附区、第二清洗区、反应区，在纳米颗粒表面形成一层包覆薄膜，循环运动以得到理想的膜厚。本发明能够实现在常压下纳米颗粒的快速包覆，具有包覆率高、包覆均匀性好、包覆效率高等优点。
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公开(公告)号：CN105386011A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510953058.2
申请日：2015-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4417 , C23C16/442 , C23C16/45544 , C23C16/45555 , C23C16/4581
Abstract: 本发明公开了一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置，包括电机、反应腔、行星架、夹持器和输气管路，其中，电机与行星架相连，行星架上安装有中心轮和若干个行星轮；电机用于带动中心轮和行星轮旋转；夹持器位于反应腔内部，用于承载粉体；该夹持器还与行星轮相连，在行星轮的带动下旋转；输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气。本发明能够对夹持器内的粉体颗粒提供离心流化作用，同时结合轴向的气流流化作用，克服了离心流化床沿轴向方向分布不均匀的状况以及改善了传统垂直流化床剪切力过小的特点，能有效提高粉体包覆率和均匀性，一次性能够对大量粉体进行包覆，提高粉体包覆效率。
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公开(公告)号：CN106917074B
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201710193000.1
申请日：2017-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/54
Abstract: 本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴；导向装置包括若干个无动力辊筒；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单，便于使用和维护；待沉积样品能够循环运动，能够连续反应，不需要反复收放卷，不用频换启动与停止，提高反应效率。
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公开(公告)号：CN105369221B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201510946119.2
申请日：2015-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 本发明公开了一种包覆纳米颗粒的原子层沉积装置及其方法，其中该装置包括电机、反应腔、夹持器和输气管路，电机与夹持器相连，用于带动夹持器旋转；夹持器位于反应腔内部，用于承载纳米颗粒；输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气；反应腔周围设置有加热装置，使得反应气体与纳米颗粒反应从而在纳米颗粒上沉积包覆原子层；该反应腔还与真空泵相连，真空泵用于对反应腔抽真空。本发明能够有效克服纳米颗粒基底的团聚现象，在纳米颗粒表面沉积原子层、包覆纳米颗粒，提高包覆率和均匀性，并提高粉体表面包覆的效率。
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公开(公告)号：CN105369221A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510946119.2
申请日：2015-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
CPC classification number: C23C16/4417 , C23C16/455 , C23C16/4588
Abstract: 本发明公开了一种包覆纳米颗粒的原子层沉积装置及其方法，其中该装置包括电机、反应腔、夹持器和输气管路，电机与夹持器相连，用于带动夹持器旋转；夹持器位于反应腔内部，用于承载纳米颗粒；输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气；反应腔周围设置有加热装置，使得反应气体与纳米颗粒反应从而在纳米颗粒上沉积包覆原子层；该反应腔还与真空泵相连，真空泵用于对反应腔抽真空。本发明能够有效克服纳米颗粒基底的团聚现象，在纳米颗粒表面沉积原子层、包覆纳米颗粒，提高包覆率和均匀性，并提高粉体表面包覆的效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107254675B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201710423764.5
申请日：2017-06-07
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/54 , B82Y40/00
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/4417
Abstract: 本发明公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置，包括依次连接的第一、第二、第三及第四级管路单元；所述第一级管路单元用于提供第一前驱体(3)，并使第一前驱体(3)在纳米颗粒的表面完成吸附；所述第三级管路单元用于提供第二前驱体(6)，并使第二前驱体(6)与所述纳米颗粒表面的第一前驱体(3)发生反应，以在纳米颗粒表面生成单分子薄膜层；所述第二、第四级管路单元用于对所述纳米颗粒进行清洗，排出多余的第一前驱体(3)、第二前驱体(6)或反应产生的副产物。本发明还公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆方法。本发明的装置，提高沉积薄膜的包覆率和均匀性，提高粉体表面包覆的效率。
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公开(公告)号：CN106917074A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201710193000.1
申请日：2017-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/45574 , C23C16/4581 , C23C16/46 , C23C16/54
Abstract: 本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴；导向装置包括若干个无动力辊筒；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单，便于使用和维护；待沉积样品能够循环运动，能够连续反应，不需要反复收放卷，不用频换启动与停止，提高反应效率。
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公开(公告)号：CN106048559A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610371245.4
申请日：2016-05-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/02
CPC classification number: C23C16/45525 , C23C16/02 , C23C16/0227 , C23C16/45544
Abstract: 本发明公开了一种基于空间隔离的纳米颗粒原子层沉积装置及方法，本发明使待包覆的纳米颗粒随气流通过分布有多个电极的管路，颗粒经过电极时由于尖端放电作用带上同种电荷，从而使纳米颗粒间相互排斥，防止团聚，达到分散颗粒的目的，然后通过清洗区域或前驱体反应区域，实现纳米颗粒的均匀包覆。本发明采用空间隔离的原理，使原子层沉积不同过程互不影响，能实现常压下纳米颗粒的快速均匀包覆，提高了沉积薄膜的包覆率、均匀性以及粉体表面包覆的效率。
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公开(公告)号：CN106048559B
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201610371245.4
申请日：2016-05-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/02
Abstract: 本发明公开了一种基于空间隔离的纳米颗粒原子层沉积装置及方法，本发明使待包覆的纳米颗粒随气流通过分布有多个电极的管路，颗粒经过电极时由于尖端放电作用带上同种电荷，从而使纳米颗粒间相互排斥，防止团聚，达到分散颗粒的目的，然后通过清洗区域或前驱体反应区域，实现纳米颗粒的均匀包覆。本发明采用空间隔离的原理，使原子层沉积不同过程互不影响，能实现常压下纳米颗粒的快速均匀包覆，提高了沉积薄膜的包覆率、均匀性以及粉体表面包覆的效率。
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公开(公告)号：CN107254675A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710423764.5
申请日：2017-06-07
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/54 , B82Y40/00
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/4417 , C23C16/45525 , B82Y40/00 , C23C16/54
Abstract: 本发明公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置，包括依次连接的第一、第二、第三及第四级管路单元；所述第一级管路单元用于提供第一前驱体(3)，并使第一前驱体(3)在纳米颗粒的表面完成吸附；所述第三级管路单元用于提供第二前驱体(6)，并使第二前驱体(6)与所述纳米颗粒表面的第一前驱体(3)发生反应，以在纳米颗粒表面生成单分子薄膜层；所述第二、第四级管路单元用于对所述纳米颗粒进行清洗，排出多余的第一前驱体(3)、第二前驱体(6)或反应产生的副产物。本发明还公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆方法。本发明的装置，提高沉积薄膜的包覆率和均匀性，提高粉体表面包覆的效率。
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