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公开(公告)号：CN1920091A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200510093034.0
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明公开了一种多功能真空连续镀膜装置，由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成，所述的气路及控制系统的各气路接入真空镀膜室，所述真空镀膜室内布控有电子枪、热蒸发电极和磁控溅射靶，还配有基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架台，真空镀膜室及基带卷绕系统固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架台两侧有用于活性固定放带、收带室的小支架台。真空室内装有样品、电子枪、热蒸发舟和磁控溅射靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有挡板。
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公开(公告)号：CN100497727C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200510093034.0
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明公开了一种多功能真空连续镀膜装置，由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成，所述的气路及控制系统的各气路接入真空镀膜室，所述真空镀膜室内布控有电子枪、热蒸发电极和磁控溅射靶，还配有基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架台，真空镀膜室及基带卷绕系统固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架台两侧有用于活性固定放带、收带室的小支架台。真空室内装有样品、电子枪、热蒸发舟和磁控溅射靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有挡板。
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公开(公告)号：CN2846440Y
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200520106338.1
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型公开了一种连续镀膜装置用加热器，它包括：一由外围板围合的腔体，侧面开轴向通口，内置一组加热灯管。长腔体内的前、后及上侧均设有一层以上的挡板。在加热灯管下侧设一可抽拉的石英挡板。在加热器的固接一用于与外界固定的支架。本实用新型可适用于连续镀膜装置的连续镀膜加热。
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公开(公告)号：CN2808484Y
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200520114361.5
申请日：2005-07-26
Applicant: 北京有色金属研究总院 , 北京大学
IPC: B26D1/02
Abstract: 一种用于金属薄带切割的装置，其特征在于：是在工作台上固定有导套，导套中配合有刀片座，刀片座上安装有刀刃向下的刀片，并在刀片座上固定有刀把手，在工作台与导套之间设有工件放置的空间。本实用新型的装置体积小，重量轻，无需固定，可随处移动，可控切割长度1mm－100mm(或200mm)，厚20μm－200μm，宽3mm－30mm的金属带材，保证表面不受损伤，切割尺寸重复性好，带材无变形，且操作简单易控，适合对长的金属薄带进行小样切割。
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公开(公告)号：CN2844137Y
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200520106339.6
申请日：2005-08-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型公开了一种多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、气路及控制系统组成，所述的真空镀膜单元装置包括一真空镀膜室，其下方布控有电子枪、热蒸发电极，下侧方设立一对磁控溅射靶；还配有一基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台。所述的真空室内装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发舟挡板和靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有固定挡板。本装置可用于在长带上开发多种材料多层膜。
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