一种应用于扩容性印刷包装的复合材料制备工艺

    公开(公告)号:CN109263062A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811057319.2

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 本发明公开了一种应用于扩容性印刷包装的复合材料制备工艺,该制备工艺包括如下步骤:准备原料:原料包括石塑纸(石塑复合材料),松厚度较高的纤维纸,粘合胶或树脂材料。对粘合胶或树脂材料加温,使粘合胶或树脂材料充分熔化形成粘合材料。把熔化的粘合材料充分均匀涂在石塑纸或松厚度较高的纤维纸表面。根据要求,选择使用机械复合或人工复合等方法,使石塑纸与松厚度较高的纤维纸牢固结合。本发明拓宽了现有技术中的挺度差、厚度底、不透明性差等缺陷。

    一种通过瞬态电流分析阻变存储器内部陷阱的方法

    公开(公告)号:CN108614203A

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201810423405.4

    申请日:2018-05-06

    Abstract: 本发明公开了一种通过瞬态电流分析阻变存储器内部陷阱的方法,首先测量阻变存储器在正向、负向偏压区域的I-V曲线,判断阻变存储器的导电机制。由于载流子有机会从陷阱中跃迁出来,所以当施加在存储器上的陷阱填充电压被移开之后,在短时间内监测到瞬态电流的产生。通过对瞬态电流的e指数函数的拟合,得到了相应的时间常数,并且通过分析不同温度对瞬态电流的影响,得到一组随温度变化而变化的时间常数谱。利用阿仑尼乌斯坐标拟合,确定BFO阻变存储器中缺陷对应能级的激活能。通过改变对阻变存储器施加脉冲的填充电压和填充时间,分析时间常数随填充电压和填充时间的变化,结合极化及陷阱填充状态对阻变存储器有序性的影响,利用时间常数分析阻变存储器内部陷阱的填充状态。

    一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器

    公开(公告)号:CN111276602A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010092622.7

    申请日:2020-02-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器,通过脉冲激光沉积方法生长钌酸锶下电极钨酸铋薄膜,并通过掩膜版法制作铂上电极,完成BWO薄膜器件的制备。使用安捷伦安捷伦B1500A测量其I-V特性曲线,在双对数坐标系下,分析其内部导电机制符合空间电荷限制传导,且正方向具有优异的保持特性,BWO薄膜器件具有制备阻变存储器的潜力。使用安捷伦B1500A、Radiant铁电铁测试仪,对BWO阻变存储器的数据保持特性以及疲劳特性进行测试,评估BWO阻变存储器的可靠性。实验发现,BWO薄膜器件拥有优秀的阻变特性,且具备良好的保持和疲劳特性,可应用于阻变存储器件。

    一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器

    公开(公告)号:CN111276602B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202010092622.7

    申请日:2020-02-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器,通过脉冲激光沉积方法生长钌酸锶下电极钨酸铋薄膜,并通过掩膜版法制作铂上电极,完成BWO薄膜器件的制备。使用安捷伦安捷伦B1500A测量其I‑V特性曲线,在双对数坐标系下,分析其内部导电机制符合空间电荷限制传导,且正方向具有优异的保持特性,BWO薄膜器件具有制备阻变存储器的潜力。使用安捷伦B1500A、Radiant铁电铁测试仪,对BWO阻变存储器的数据保持特性以及疲劳特性进行测试,评估BWO阻变存储器的可靠性。实验发现,BWO薄膜器件拥有优秀的阻变特性,且具备良好的保持和疲劳特性,可应用于阻变存储器件。

    基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置

    公开(公告)号:CN112884645A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110063571.X

    申请日:2021-01-18

    Inventor: 齐娜 王晨 朱青

    Abstract: 基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置,避免向量化、引入超分辨率重建技术使光场内部的相关特性被最大程度地利用,得到客观表现良好的填充光场,给用户更好的视觉体验。方法包括:(I)对丢失部分信息的光场进行滑窗采样、搜索相似块并堆叠,利用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充得到的五维张量,再将其中的图像块分别置回光场原始索引处,得到填充的光场;(II)对(I)中得到的光场、与对前者进行超分辨率重建得到的高分辨率光场都进行滑窗采样;将后者得到的图像块投影为前者相同大小的块,相似度排序得到由两者组成的五维张量,对其使用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充,将其中原始大小的图像块置回原始索引处,得到填充的光场。

    基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置

    公开(公告)号:CN112884645B

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202110063571.X

    申请日:2021-01-18

    Inventor: 齐娜 王晨 朱青

    Abstract: 基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置,避免向量化、引入超分辨率重建技术使光场内部的相关特性被最大程度地利用,得到客观表现良好的填充光场,给用户更好的视觉体验。方法包括:(I)对丢失部分信息的光场进行滑窗采样、搜索相似块并堆叠,利用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充得到的五维张量,再将其中的图像块分别置回光场原始索引处,得到填充的光场;(II)对(I)中得到的光场、与对前者进行超分辨率重建得到的高分辨率光场都进行滑窗采样;将后者得到的图像块投影为前者相同大小的块,相似度排序得到由两者组成的五维张量,对其使用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充,将其中原始大小的图像块置回原始索引处,得到填充的光场。

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