加热消除绝缘陶瓷样品荷电效应的方法

    公开(公告)号:CN101017123A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200710064136.9

    申请日:2007-03-02

    Abstract: 本发明是一种加热消除绝缘陶瓷样品荷电效应的方法。该方法主要用于消除陶瓷类绝缘样品在电子束辐照下产生的荷电效应,达到在扫描电镜中直接对绝缘样品进行观察和分析的目的。本发明是在SEM中配置一个加热装置,而不改变SEM原有的真空系统、电子光学系统和电子信号探测系统。加热使绝缘样品的荷电效应逐渐减小和消除。由于加热是在高真空环境中进行的,因而减小了残余气体分子对入射电子的散射作用,避免了残余气体对样品表面的污染,从而提高了图像的质量。与通常的采用负电荷与正离子中和的方法来消除荷电效应的结果相比较,加热消除荷电可使非导电样品的二次电子像具有更好的图像衬度和信噪比,是一种简便、有效的荷电补偿方法。

    环境扫描电镜中电荷环境的测量方法

    公开(公告)号:CN1873400A

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200610089512.5

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01J2237/2605

    Abstract: 本发明中涉及一种环境扫描电镜中电荷环境的测量方法。该方法中采用一个高灵敏度的微小电流测试仪表(pA-表)和计算机,测量在电子束辐照下,在法拉第杯中,以及金属、半导体和绝缘体中的样品电流(ISC),即空间电荷电流(ISP),确定环境扫描电镜(ESEM)样品室中气体压力、气体离子化效率、离子化饱和度,以及气体对电子的散射率等。以此评价ESEM样品室内由电子流和离子流所控制的电荷环境,优化ESEM的成像条件,包括环境参数(压力、气氛、湿度),以及操作参数(加速电压、工作距离等),研究荷电补偿条件及荷电动态平衡条件,以获得高质量的图像。

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