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公开(公告)号：CN107363648A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710670607.4
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/04
CPC classification number: B24B1/04
Abstract: 本发明提供了一种超磁致伸缩超声振动抛光装置，包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器；所述抛光设备和所述底座通过支柱连接，所述抛光垫安置在所述抛光设备上面，所述旋转叶片安置在所述抛光设备底部，所述超磁致伸缩致动器安置在所述底座上面。本发明以超磁致伸缩制动器为驱动方式，抛光盘高频振动能够提高抛光效率，实现了对硅片等脆硬半导体材料的超精密CMP抛光与超声振动复合抛光，降低了工件表面的压力，使工件表面的变质层厚度降低一倍，改善了抛光表面的质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107424720A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710670951.3
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
CPC classification number: H01F7/0273 , B24B1/005
Abstract: 本发明提供了一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置。主要包括：互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分，磁回路结构部分包括：电磁线圈、内磁极、底部磁轭、上部磁轭、隔磁板或隔磁条和外磁极，电路控制部分的输出电流流入电磁线圈，电路控制部分控制输出电流的方向和大小。本发明的脉宽调制磁场电路通过微控制器、固态继电器、电容器、分压调节电阻、电源、二极管等能有效的调节脉宽调制磁场发生器的脉宽调制磁场的频率、脉宽和强度，进而使磁流变液形成硬度和剪切屈服应力可变，并能自行更新磁性颗粒和磨粒的“柔性研磨头”，这使得该脉宽调制磁场发生器在磁流变抛光设备中能针对不同材料的工件实现更为高效和高质量的抛光。
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公开(公告)号：CN107363649A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710670621.4
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/04
CPC classification number: B24B1/04
Abstract: 本发明提供了一种电致伸缩超声振动抛光装置，包括抛光设备、底座、抛光垫和电致伸缩致动器；所述抛光设备和所述底座通过三根支柱连接，所述抛光垫安置在所述抛光设备上面，所述电致伸缩致动器安置在所述底座上面。本发明利用超声振动和超精密CMP复合抛光，可明显降低工件表面的变质层厚度，大幅改善抛光表面质量，在超声振动的作用下，抛光液中的磨粒分散效果好，使得更多的磨粒参与抛光，降低磨粒磨损速率，进而降低CMP抛光液更换频率，节约抛光成本。
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公开(公告)号：CN207223558U
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201720982917.5
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 本实用新型提供了一种超磁致伸缩超声振动抛光装置，包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器；所述抛光设备和所述底座通过三根支柱连接，所述抛光垫安置在所述抛光设备上面，所述旋转叶片安置在所述抛光设备底部，所述超磁致伸缩致动器安置在所述底座上面。本实用新型以超磁致伸缩制动器为驱动方式，抛光盘高频振动能够提高抛光效率，实现了对硅片等脆硬半导体材料的超精密CMP抛光与超声振动复合抛光，降低了工件表面的压力，使工件表面的变质层厚度降低一倍，改善了抛光表面的质量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207043869U
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201720983235.6
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 本实用新型提供了一种电致伸缩超声振动抛光装置，包括抛光设备、底座、抛光垫和电致伸缩致动器；所述抛光设备和所述底座通过三根支柱连接，所述抛光垫安置在所述抛光设备上面，所述电致伸缩致动器安置在所述底座上面。本实用新型利用超声振动和超精密CMP复合抛光，可明显降低工件表面的变质层厚度，大幅改善抛光表面质量，在超声振动的作用下，抛光液中的磨粒分散效果好，使得更多的磨粒参与抛光，降低磨粒磨损速率，进而降低CMP抛光液更换频率，节约抛光成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207233494U
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201720982919.4
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本实用新型提供了一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置。主要包括：互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分，磁回路结构部分包括：电磁线圈、内磁极、底部磁轭、上部磁轭、隔磁板或隔磁条和外磁极，电路控制部分的输出电流流入电磁线圈，电路控制部分控制输出电流的方向和大小。本实用新型的脉宽调制磁场电路通过微控制器、固态继电器、电容器、分压调节电阻、电源、二极管等能有效的调节脉宽调制磁场发生器的脉宽调制磁场的频率、脉宽和强度，进而使磁流变液形成硬度和剪切屈服应力可变，并能自行更新磁性颗粒和磨粒的“柔性研磨头”，这使得该脉宽调制磁场发生器在磁流变抛光设备中能针对不同材料的工件实现更为高效和高质量的抛光。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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