公开(公告)号：CN1303953A

公开(公告)日：2001-07-18

申请号：CN00137610.1

申请日：2000-11-30

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 山口裕人 ,  金井正博 ,  小池淳 ,  大矢克典

IPC: C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3233 ,  C23C14/355 ,  H01J37/3405

Abstract: 本发明提供了一种薄膜形成方法,其包括对溅射微粒进行电离和向衬底附近的电极供送周期性变化的电压的步骤,其中等于或者高于该周期性变化的电压的最大与最小值之间的中间值的电压的供送时间比等于或者低于该中间值的电压的供送时间要短,并且还提供了用于执行前述方法的薄膜形成装置。

公开(公告)号：CN102212778A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201110083128.5

申请日：2011-04-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中川善之 ,  吉田正典 ,  増田正道 ,  大山淳史 ,  小金井昭雄 ,  宫町尚利 ,  山口裕人 ,  唐木哲也 ,  浮贺谷信贵 ,  吉川俊明

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/042

Abstract: 本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。