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公开(公告)号：CN102497988B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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公开(公告)号：CN102256792B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN200980151905.6
申请日：2009-12-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10 , C08F8/12 , C08F8/14 , C08F16/06 , C08F18/00 , C08F216/06 , C08F218/00 , C08F116/06
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/039 , Y10S430/11
Abstract: 一种辐射敏感组合物可被用于制备具有改良的敏感性和耐溶剂性的阳图制版可成像元件(positive-working imageable elements)。这些元件可用于制造平版印版和印刷电路板。该组合物包含水不溶的聚合胶黏剂，其具有至少20mol％的包含羟基芳基羧酸酯基团(部分可被环状酰亚胺部分所取代)的重复单元。
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公开(公告)号：CN102256792A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151905.6
申请日：2009-12-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10 , C08F8/12 , C08F8/14 , C08F16/06 , C08F18/00 , C08F216/06 , C08F218/00 , C08F116/06
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/039 , Y10S430/11
Abstract: 一种辐射敏感组合物可被用于制备具有改良的敏感性和耐溶剂性的阳图制版可成像元件(positive-working imageable elements)。这些元件可用于制造平版印版和印刷电路板。该组合物包含水不溶的聚合胶黏剂，其具有至少20mol％的包含羟基芳基羧酸酯基团(部分可被环状酰亚胺部分所取代)的重复单元。
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公开(公告)号：CN102497988A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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