公开(公告)号：CN102256792B

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN200980151905.6

申请日：2009-12-14

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·勒瓦龙 ,  G·布里纳 ,  V·卡佩 ,  L·波斯特 ,  M·鲁宾 ,  T·库特塞

IPC: B41C1/10 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F16/06 ,  C08F18/00 ,  C08F216/06 ,  C08F218/00 ,  C08F116/06

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/11

Abstract: 一种辐射敏感组合物可被用于制备具有改良的敏感性和耐溶剂性的阳图制版可成像元件(positive-working imageable elements)。这些元件可用于制造平版印版和印刷电路板。该组合物包含水不溶的聚合胶黏剂，其具有至少20mol％的包含羟基芳基羧酸酯基团(部分可被环状酰亚胺部分所取代)的重复单元。

公开(公告)号：CN102256792A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200980151905.6

申请日：2009-12-14

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·勒瓦龙 ,  G·布里纳 ,  V·卡佩 ,  L·波斯特 ,  M·鲁宾 ,  T·库特塞

IPC: B41C1/10 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F16/06 ,  C08F18/00 ,  C08F216/06 ,  C08F218/00 ,  C08F116/06

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/11

Abstract: 一种辐射敏感组合物可被用于制备具有改良的敏感性和耐溶剂性的阳图制版可成像元件(positive-working imageable elements)。这些元件可用于制造平版印版和印刷电路板。该组合物包含水不溶的聚合胶黏剂，其具有至少20mol％的包含羟基芳基羧酸酯基团(部分可被环状酰亚胺部分所取代)的重复单元。