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公开(公告)号：CN101903177A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880121530.4
申请日：2008-12-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/12
Abstract: 正性工作可成像元件可以经成像和显影而制备成像元件例如平版印刷板。该可成像元件包括可成像层，该可成像层具有一种或多种碱可溶性聚合物粘结剂和由本文所述结构(DEC)或(DEC1)表示的显影性增强化合物，该显影性增强化合物是在每个分子中具有至少一个氨基和至少一个羧酸基的有机化合物。
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公开(公告)号：CN102497988A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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公开(公告)号：CN102497988B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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公开(公告)号：CN102036821B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200980118635.9
申请日：2009-05-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/145
Abstract: 一种制造例如平版印刷版的成像元件的方法，通过成像曝光红外辐射-敏感正性工作可成像元件来提供曝光的和未曝光的区域。使用pH为9至11.5并且含有碳酸盐离子和至少1wt％的一种或多种阴离子表面活性剂的单一处理溶液，仅主要去除曝光的区域，形成图像和在成像表面上形成保护涂层，使成像元件显影。可成像元件包括基材和辐射吸收化合物，并且在基材上具有可成像层，所述可成像层包括显影增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)，其中聚(乙烯醇缩醛)的重复单元的至少25mol％包括侧挂硝基-取代的苯酚基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101622130B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200880006298.X
申请日：2008-02-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： M·勒瓦农
CPC classification number: B41M5/368 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 辐射敏感性组合物可以用来制备例如可用于制造平版印刷版的可成像元件。该组合物包括含水碱性溶剂可溶性酚醛树脂或聚(乙烯醇缩醛)作为聚合物粘结剂。该组合物还包括具有脲烷结构部分和氟化亚烷氧基结构部分的氟化合物以提供改进的涂覆和摩擦性能，尤其是当与衬纸堆叠时。该辐射敏感性组合物可以涂覆为可成像层，该可成像层还包括例如，对红外辐射敏感的辐射吸收性化合物。
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公开(公告)号：CN101903177B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200880121530.4
申请日：2008-12-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/12
Abstract: 正性工作可成像元件可以经成像和显影而制备成像元件例如平版印刷板。该可成像元件包括可成像层，该可成像层具有一种或多种碱可溶性聚合物粘结剂和由本文所述结构(DEC)或(DEC1)表示的显影性增强化合物，该显影性增强化合物是在每个分子中具有至少一个氨基和至少一个羧酸基的有机化合物。
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公开(公告)号：CN102132217A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200980132473.4
申请日：2009-08-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/039 , G03F7/322
Abstract: 可以使用包括至少0.03N有机胺或其混合物的处理溶液成像和加工正性工作可成像元件，所述有机胺或其混合物的共轭酸具有大于9的pKa和大于150℃的沸点。该可成像元件为单层红外辐射敏感正性工作可成像元件，其包括基材和红外辐射吸收化合物。其还具有包括显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)的可成像层，其中聚(乙烯醇缩醛)重复单元的至少25mol%包括用一个或多个吸电子基取代的侧挂苯酚、萘酚或蒽酚基团。
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公开(公告)号：CN102036821A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980118635.9
申请日：2009-05-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/145
Abstract: 一种制造例如平版印刷版的成像元件的方法，通过成像曝光红外辐射-敏感正性工作可成像元件来提供曝光的和未曝光的区域。使用pH为9至11.5并且含有碳酸盐离子和至少1wt％的一种或多种阴离子表面活性剂的单一处理溶液，仅主要去除曝光的区域，形成图像和在成像表面上形成保护涂层，使成像元件显影。可成像元件包括基材和辐射吸收化合物，并且在基材上具有可成像层，所述可成像层包括显影增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)，其中聚(乙烯醇缩醛)的重复单元的至少25mol％包括侧挂硝基-取代的苯酚基。
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公开(公告)号：CN101622130A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200880006298.X
申请日：2008-02-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： M·勒瓦农
CPC classification number: B41M5/368 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 辐射敏感性组合物可以用来制备例如可用于制造平版印刷版的可成像元件。该组合物包括含水碱性溶剂可溶性酚醛树脂或聚(乙烯醇缩醛)作为聚合物粘结剂。该组合物还包括具有脲烷结构部分和氟化亚烷氧基结构部分的氟化合物以提供改进的涂覆和摩擦性能，尤其是当与衬纸堆叠时。该辐射敏感性组合物可以涂覆为可成像层，该可成像层还包括例如，对红外辐射敏感的辐射吸收性化合物。
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