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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102497988B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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公开(公告)号：CN102497988A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080040381.6
申请日：2010-08-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368
Abstract: 使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含：具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
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公开(公告)号：CN101616804B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200880005659.9
申请日：2008-02-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41M5/368 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/12 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感性组合物能够用于制备正性可成像元件，后者例如用于制作平版印刷版。组合物包括水性的碱性溶剂可溶性聚合物粘结剂，后者包括酚醛树脂(如线型酚醛清漆)或聚乙烯醇缩醛。组合物还包括包含一种或多种含碱性氮的有机化合物的显影性增强组合物。该辐射敏感性组合物能够被涂覆为可成像层，它进一步包括例如对红外辐射敏感的辐射吸收化合物。
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公开(公告)号：CN101616804A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200880005659.9
申请日：2008-02-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41M5/368 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/12 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感性组合物能够用于制备正性可成像元件，后者例如用于制作平版印刷版。组合物包括水性的碱性溶剂可溶性聚合物粘结剂，后者包括酚醛树脂(如线型酚醛清漆)或聚乙烯醇缩醛。组合物还包括包含一种或多种含碱性氮的有机化合物的显影性增强组合物。该辐射敏感性组合物能够被涂覆为可成像层，它进一步包括例如对红外辐射敏感的辐射吸收化合物。
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公开(公告)号：CN101479106A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200780023515.1
申请日：2007-06-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24
Abstract: 单层和多层正性工作可成像组合物二者都可以用于具有基底和至少一个可成像层的正性工作元件。这些元件可以用于制备平版印刷板。该可成像元件包括辐射吸收化合物和具有重复的支化羟基苯乙烯单元的羟基苯乙烯聚合物。
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