公开(公告)号：CN101479663A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200780024226.3

申请日：2007-06-13

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： H·M·蒙内利 ,  S·萨雷亚 ,  K·D·惠兰 ,  F·E·米克尔 ,  P·R·韦斯特

IPC: G03F7/033 ,  G03F7/085

CPC classification number: G03F7/027 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  B41N1/083 ,  G03F7/033 ,  G03F7/085

Abstract: 辐射－敏感性组合物包括可自由基聚合组分和能够在曝光于成像辐射时产生足以引发可自由基聚合组分的聚合的自由基的引发剂组合物。该组合物还包括辐射吸收化合物、具有聚(亚烷基二醇)侧链的聚合物粘合剂、和分子量为至少250的非离子磷酸酯丙烯酸酯。该组合物可以用于制备负性工作可成像组件，其对适宜成像辐射敏感且可以以较低能量成像、显影为印刷机内或是印刷机外、并随后用于印刷，无需曝光后烘焙步骤。