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公开(公告)号:CN1204611C
公开(公告)日:2005-06-01
申请号:CN01803144.7
申请日:2001-08-22
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01L21/60
CPC classification number: H01L24/86 , H01L23/3114 , H01L23/3128 , H01L23/3185 , H01L23/49572 , H01L24/97 , H01L2224/16 , H01L2224/16245 , H01L2224/45144 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01015 , H01L2924/01019 , H01L2924/01023 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01045 , H01L2924/01074 , H01L2924/01077 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/15311 , H01L2924/351 , Y10T428/24843 , Y10T428/28 , Y10T428/2852 , Y10T428/287 , H01L2924/00 , H01L2224/0401
Abstract: 本发明涉及用于半导体装置的并带有粘合剂的带,该带由绝缘性膜层和1层以上的半固化状态的粘合剂层的层积物构成,其中,该绝缘性膜层在50℃~200℃的在膜宽度方向上的线膨胀系数为17ppm/℃~30ppm/℃,此外,拉伸弹性率为6GPa~12GPa,并且该粘合剂层的在宽度方向上的在150℃的弹性率为1MPa~5GPa,在25℃~150℃的线膨胀系数在10ppm/℃~500ppm/℃范围里。本发明提供了由所述构成的、适于工业中制成半导体装置的带粘合剂的带以及使用了它的铜膜叠层板、半导体连接用基板和半导体装置的材料,可以提高高密度实装用的半导体装置的可靠性。
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公开(公告)号:CN1393033A
公开(公告)日:2003-01-22
申请号:CN01803144.7
申请日:2001-08-22
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01L21/60
CPC classification number: H01L24/86 , H01L23/3114 , H01L23/3128 , H01L23/3185 , H01L23/49572 , H01L24/97 , H01L2224/16 , H01L2224/16245 , H01L2224/45144 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01015 , H01L2924/01019 , H01L2924/01023 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01045 , H01L2924/01074 , H01L2924/01077 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/15311 , H01L2924/351 , Y10T428/24843 , Y10T428/28 , Y10T428/2852 , Y10T428/287 , H01L2924/00 , H01L2224/0401
Abstract: 本发明涉及以具有下述特性(1)、(2)的绝缘性膜层和1层以上的半固化状态的粘合剂层的层积物所构成为特征的半导体用有粘合剂的带,(1)在50~200℃膜的宽度方向(TD)的线膨胀系数为17~30ppm/℃;(2)拉伸弹性率为6~12GPa。本发明提供了由所述构成的、适合于工业中制成半导体装置的带粘合剂的带以及使用了它的铜膜叠层板、半导体连接用基板和半导体装置的材料,可以提高高密度实装用的半导体装置的可靠性。
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