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公开(公告)号：CN1575970A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062567.8
申请日：2004-06-30
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , Y10T428/24355 , Y10T428/24851 , Y10T428/24942 , Y10T428/31 , Y10T428/31565 , Y10T428/31576 , Y10T428/31786 , Y10T428/31928 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明涉及一种在基材薄膜的至少一面上层压有硬涂层，在波长400～600nm下的硬涂层侧的反射率的平均波动振幅在1％或其以下的硬涂层薄膜。本发明提供一种减小了彩虹图样的硬涂层。此外，本发明还提供一种表面反射率低、色调呈中性的防反射薄膜，以及安装有该薄膜的图像显示装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1330581A
公开(公告)日：2002-01-09
申请号：CN99814332.4
申请日：1999-11-05
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B24B37/00
CPC classification number: B24B37/24 , Y10S438/959
Abstract: 本发明涉及抛光装置,其特征在于,微橡胶A硬度为80度以上的抛光层和体积弹性模量为40Mpa以上而且拉伸弹性模量为0.1Mpa以上20Mpa以下的缓冲层的抛光垫、以及将半导体基板固定于抛光头,在抛光平台上固定该抛光垫,使抛光层与半导体基板相对,使所述抛光头或抛光平台或其双方旋转,抛光所述半导体基板。根据本发明,在通过抛光使形成于半导体基板上的绝缘层或金属布线的表面平滑的机械性的平坦化工序中使用的抛光装置或抛光垫中,可以实现使半导体基板整面均匀平坦化甚至在接近晶片边缘处均匀地抛光,而且可以提供在压磨板高旋转速度的条件下、同时实现均匀性和平坦性的技术。
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公开(公告)号：CN100358710C
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200410062567.8
申请日：2004-06-30
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , Y10T428/24355 , Y10T428/24851 , Y10T428/24942 , Y10T428/31 , Y10T428/31565 , Y10T428/31576 , Y10T428/31786 , Y10T428/31928 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明涉及一种在基材薄膜的至少一面上层压有硬涂层，在波长400～600nm下的硬涂层侧的反射率的平均波动振幅在1%或其以下的硬涂层薄膜。本发明提供一种减小了彩虹图样的硬涂层。此外，本发明还提供一种表面反射率低、色调呈中性的防反射薄膜，以及安装有该薄膜的图像显示装置。
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公开(公告)号：CN1969023A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200580019195.3
申请日：2005-06-10
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B7/02 , B32B27/00 , C08J7/04 , C09D5/16 , C09D5/32 , C09D7/12 , C09D183/08 , G02B1/10
CPC classification number: C09D5/006 , C08K3/36 , C09D7/61 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D183/04 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供硅氧烷系涂料，该硅氧烷系涂料是含有氧化硅微粒、硅氧烷化合物和固化剂的涂料，通过该涂料形成涂膜时，所得到的涂膜均质化。通过本发明，提供贮存稳定性优异，且通过该涂料形成涂膜时，所得到的涂膜的表面硬度较高的硅氧烷系涂料。此外，本发明提供反射防止性优异且耐擦伤性优异的光学制品。
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公开(公告)号：CN1969023B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200580019195.3
申请日：2005-06-10
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B7/02 , B32B27/00 , C08J7/04 , C09D5/16 , C09D5/32 , C09D7/12 , C09D183/08 , G02B1/10
CPC classification number: C09D5/006 , C08K3/36 , C09D7/61 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D183/04 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供硅氧烷系涂料，该硅氧烷系涂料是含有氧化硅微粒、硅氧烷化合物和固化剂的涂料，通过该涂料形成涂膜时，所得到的涂膜均质化。通过本发明，提供贮存稳定性优异，且通过该涂料形成涂膜时，所得到的涂膜的表面硬度较高的硅氧烷系涂料。此外，本发明提供反射防止性优异且耐擦伤性优异的光学制品。
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公开(公告)号：CN1099939C
公开(公告)日：2003-01-29
申请号：CN99814332.4
申请日：1999-11-05
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B24B37/00
CPC classification number: B24B37/24 , Y10S438/959
Abstract: 本发明涉及抛光装置，其特征在于，微橡胶A硬度为80度以上的抛光层和体积弹性模量为40MPa以上而且拉伸弹性模量为0.1MPa以上20MPa以下的缓冲层的抛光垫、以及将半导体基板固定于抛光头，在抛光平台上固定该抛光垫，使抛光层与半导体基板相对，使所述抛光头或抛光平台或其双方旋转，抛光所述半导体基板。根据本发明，在通过抛光使形成于半导体基板上的绝缘层或金属布线的表面平滑的机械性的平坦化工序中使用的抛光装置或抛光垫中，可以实现使半导体基板整面均匀平坦化甚至在接近晶片边缘处均匀地抛光，而且可以提供在压磨板高旋转速度的条件下、同时实现均匀性和平坦性的技术。
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