带纳米线的膜及纳米线的制造方法

    公开(公告)号:CN114901588A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202080092107.7

    申请日:2020-12-14

    Abstract: 本发明提供在基材上直接生长有纳米线的带纳米线的膜、以及使纳米线在基材上直接生长的纳米线的制造方法。具体而言,带纳米线的膜具备由结晶性树脂构成的基材和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线,在基材的表面形成微细的凹凸结构,使纳米线从该凹凸结构直接生长。另外,具备由非晶态的树脂构成的基材、和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线,在基材的表面形成间距为2~100nm、深度为5~30nm的微细的凹凸结构,使纳米线从该凹凸结构直接生长。

    具有微细表面结构的膜的制造方法和制造装置

    公开(公告)号:CN102905875B

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201180026158.0

    申请日:2011-05-26

    CPC classification number: B29C59/022 B29C37/0007 B29C37/0014 B29C2059/023

    Abstract: 包含以下工序的具有微细表面结构的膜的制造方法和装置:向表面形成有正交的两方向的槽的模具间歇性地膜的工序、使膜接触并按压到模具上,在膜表面上成型出与模具的表面的形状对应的形状的工序和将贴附在模具的表面上的成型后的膜剥离开的脱模工序,其特征在于,模具的槽的彼此正交的两方向与膜的移送方向和宽度方向基本相同,脱模工序中的膜的剥离方向相对膜的移送方向成15度~75度的角度。在将模具的表面的微细结构转印到膜表面上进行成型、成型后脱模、移送之际,能够抑制脱模造成缺失和收率降低。

    膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置

    公开(公告)号:CN103226105A

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201310023443.8

    申请日:2013-01-22

    Abstract: 本发明提供膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置,即使对伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段,能够在刚涂布完后可靠地发现膜厚不匀,该膜厚不匀检测装置包括:照射部,向基板上的涂布膜照射特定照射图案的光;光接收部,接收从涂布膜表面反射的反射光;判断部,对由光接收部接收的光图案和特定的照射图案进行比较,由此判断涂布膜的形成状态是否良好;其中,判断部包括:图像比较部,比较接收光图案和照射图案;偏差提取图像生成部,用图像比较部比较接收光图案和照射图案以提取偏差;累加计算部,从偏差提取的图像累加计算散布的偏差提取图像的面积;累加计算偏差面积判断部,判断累加计算的偏差提取面积累加计算值是否比判断基准值大。

    具有微细表面结构的膜的制造方法和制造装置

    公开(公告)号:CN102905875A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN201180026158.0

    申请日:2011-05-26

    CPC classification number: B29C59/022 B29C37/0007 B29C37/0014 B29C2059/023

    Abstract: 包含以下工序的具有微细表面结构的膜的制造方法和装置:向表面形成有正交的两方向的槽的模具间歇性地膜的工序、使膜接触并按压到模具上,在膜表面上成型出与模具的表面的形状对应的形状的工序和将贴附在模具的表面上的成型后的膜剥离开的脱模工序,其特征在于,模具的槽的彼此正交的两方向与膜的移送方向和宽度方向基本相同,脱模工序中的膜的剥离方向相对膜的移送方向成15度~75度的角度。在将模具的表面的微细结构转印到膜表面上进行成型、成型后脱模、移送之际,能够抑制脱模造成缺失和收率降低。

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