唾液采集成像装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112362657A

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN202011246676.0

    申请日:2020-11-10

    Abstract: 本发明提供了一种唾液采集成像装置,涉及医疗检测技术领域,包括唾液采集部以及唾液成像部,所述唾液成像部包括唾液注入口、容纳腔室以及液体收集区,所述唾液注入口与唾液采集部相连,所述唾液注入口通过容纳腔室与液体收集区连通,所述唾液采集部上设置有流入通道,所述流入通道上设置有过滤片,所述液体收集区上设置有与外部连通的透气孔,所述唾液采集部中设置有加热组件,本发明实现了唾液的定量采集,通过采用成像装置使唾液结晶后的图案进行投影放大,便于观察,同时通过预先涂抹化学试剂的方法改变唾液结晶图像,获得了唾液结晶清晰地图像效果。

    多工作状态可切换的声学系统

    公开(公告)号:CN112150998A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202011216756.1

    申请日:2020-11-04

    Abstract: 本发明提供了一种多工作状态可切换的声学系统,包括受体部、执行部以及控制部,所述受体部、控制部分别作为声学系统的前端、后端,所述执行部连接受体部和控制部,所述受体部包括受体单元,所述受体单元包括框架以及分别安装在框架两侧的第一薄片、第二薄片且第一薄片和第二薄片之间形成容纳腔室,所述执行部包括驱动件以及引线,所述驱动件安装在第一薄片和第二薄片之间,所述引线分别与驱动件的正极、负极电连接,本发明中控制部通过调节驱动件上的电荷分布,实现受体单元两侧声阻抗的定量调控,实现对声学系统透射系数、反射系数和吸声系数的调整,能够应用于多种场景,实用性强。

    宽频声学材料
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112349264B

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202011216736.4

    申请日:2020-11-04

    Abstract: 本发明提供了一种宽频声学材料,包括支撑部、表面工作部以及电学部,所述表面工作部包括多个工作单元,所述工作单元安装在支撑部上,所述电学部包括阻抗调节电路,所述支撑部包括框架以及板面,多个所述板面安装在框架上,每个所述工作单元包括前表面工作部以及后表面工作部,所述前表面工作部、后表面工作部分别安装在框架的两侧,所述前表面工作部中的第一功能部件、后表面工作部中的第二功能部件分别连接所述电学部,本发明通过电阻抗设计和机电耦合解决了现有的声学材料功能单一的问题,本发明结构简单灵活,能够适应多种应用场景的需求,如能量收集、减声降噪、声波调控等,实用性强。

    频率自适应有源吸声系统

    公开(公告)号:CN112927671B

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202110076880.0

    申请日:2021-01-20

    Abstract: 本发明提供了一种频率自适应有源吸声系统,其特征在于,包括程控可变负电容电路、压电片、信号调理电路、峰值检波电路、自动增益电路、采样电路和单片机;所述程控可变负电容电路分别与单片机和压电片相连接,所述压电片与信号调理电路相连接,所述信号调理电路与峰值检波电路相连接,所述峰值检波电路与自动增益电路相连接,所述自动增益电路与采样电路相连接,所述采样电路与单片机相连接。本发明提供的频率自适应有源吸声系统具有更优秀的动态特性和更宽的适用范围,具备了自适应的系统特性,可以跟随变化的目标频率。

    唾液采集成像装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112362657B

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202011246676.0

    申请日:2020-11-10

    Abstract: 本发明提供了一种唾液采集成像装置,涉及医疗检测技术领域,包括唾液采集部以及唾液成像部,所述唾液成像部包括唾液注入口、容纳腔室以及液体收集区,所述唾液注入口与唾液采集部相连,所述唾液注入口通过容纳腔室与液体收集区连通,所述唾液采集部上设置有流入通道,所述流入通道上设置有过滤片,所述液体收集区上设置有与外部连通的透气孔,所述唾液采集部中设置有加热组件,本发明实现了唾液的定量采集,通过采用成像装置使唾液结晶后的图案进行投影放大,便于观察,同时通过预先涂抹化学试剂的方法改变唾液结晶图像,获得了唾液结晶清晰地图像效果。

    频率自适应有源吸声系统

    公开(公告)号:CN112927671A

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN202110076880.0

    申请日:2021-01-20

    Abstract: 本发明提供了一种频率自适应有源吸声系统,其特征在于,包括程控可变负电容电路、压电片、信号调理电路、峰值检波电路、自动增益电路、采样电路和单片机;所述程控可变负电容电路分别与单片机和压电片相连接,所述压电片与信号调理电路相连接,所述信号调理电路与峰值检波电路相连接,所述峰值检波电路与自动增益电路相连接,所述自动增益电路与采样电路相连接,所述采样电路与单片机相连接。本发明提供的频率自适应有源吸声系统具有更优秀的动态特性和更宽的适用范围,具备了自适应的系统特性,可以跟随变化的目标频率。

    基于电阻抗控制的声压调控器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115226011A

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN202110407465.9

    申请日:2021-04-15

    Abstract: 本发明提供了一种基于电阻抗控制的声压调控器件,包括:至少两个调控单元(1),引线(2),控制电路(3)以及支架4;所述调控单元(1)与引线(2)相连;所述引线(2)与控制电路(3)相连;所述调控单元(1)包括:配重(11),压电构件(12),基板(13);所述配重(11)设置于压电构件(12)的中间;压电构件(12)的一侧与基板(13)贴合;压电构件(12)的表面几何中心与基板(13)的一侧表面几何中心重合。本发明提出了一种受并联电路阻抗控制的声压调控材料。该声压调控器件为阵列形式,包含多个调控单元,不仅可单独控制各个单元对特定频率声波的通透比例,对声波进行加码,还可控制不同单元间的声压传递相位差,使得透过器件整体的声波向特定方向聚集传播。

    宽频声学材料
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112349264A

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN202011216736.4

    申请日:2020-11-04

    Abstract: 本发明提供了一种宽频声学材料,包括支撑部、表面工作部以及电学部,所述表面工作部包括多个工作单元,所述工作单元安装在支撑部上,所述电学部包括阻抗调节电路,所述支撑部包括框架以及板面,多个所述板面安装在框架上,每个所述工作单元包括前表面工作部以及后表面工作部,所述前表面工作部、后表面工作部分别安装在框架的两侧,所述前表面工作部中的第一功能部件、后表面工作部中的第二功能部件分别连接所述电学部,本发明通过电阻抗设计和机电耦合解决了现有的声学材料功能单一的问题,本发明结构简单灵活,能够适应多种应用场景的需求,如能量收集、减声降噪、声波调控等,实用性强。

    声辐射抑制设备及声辐射抑制结构

    公开(公告)号:CN119062229A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202310628842.0

    申请日:2023-05-30

    Abstract: 本发明提供了一种声辐射抑制设备及声辐射抑制结构。所述声辐射抑制设备,包括框架、质量区以及底板;所述质量区位于在所述框架内,框架内还设置有镂空区域;框架的一侧与底板相连,另一侧直接或间接的与外界待隔声结构表面连接;所述质量区附着在底板的一侧;外界待隔声结构的表面、框架、底板三者合围,形成密封区域。所述框架包括弹性密封框与中框;所述质量区包括中心质量区、外部质量区、第一连结结构以及第二连结结构;本发明通过中心质量区、外部质量区、第一连结结构、第二连结结构底板以及中框的设计,使外界待隔声结构的振动在声辐射抑制设备内部的不同区域发生正负抵消,以达到削弱谐振引起的声辐射目的。

    现场级自适应的平面麦克风阵列校准方法

    公开(公告)号:CN116962922A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310954186.3

    申请日:2023-08-01

    Abstract: 一种现场级自适应的平面麦克风阵列校准方法,根据参考麦克风建立坐标系,通过标准声源发出在不同位置发出同样的单频信号由参考麦克风接收并测量其与其他麦克风之间的相位差,设置感兴趣的频段和声源位置并设置声源发声,根据参考麦克风输出信号推导出其余麦克风输出信号的理论值,利用自适应算法迭代计算得到各个麦克风对应的优化滤波器。本发明利用麦克风阵列板上麦克风的几何位置推断各个麦克风间的相位差并通过自适应滤波器以更精确的方式校准麦克风相位差。针对电路安装和测试环境因素引起的相位差,能够进行自动化的在线校准,显著提高麦克风阵列在实际应用中的准确性的同时操作难度减小,要求降低,对麦克风的位置关系和参考麦克风的选择都没有强制要求。

Patent Agency Ranking