公开(公告)号：CN107099801A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201611175677.4

申请日：2016-12-19

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 松原将英 ,  夕部邦夫 ,  茂田麻里 ,  浅井智子 ,  原田奈津美

IPC: C23F1/44

Abstract: 本发明提供对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法。根据本发明，能够提供一种液体组合物，其是用于对包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物，所述液体组合物包含(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物(其中，不包括咖啡因)1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0。

公开(公告)号：CN107099801B

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN201611175677.4

申请日：2016-12-19

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 松原将英 ,  夕部邦夫 ,  茂田麻里 ,  浅井智子 ,  原田奈津美

IPC: C23F1/44

Abstract: 本发明提供对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法。根据本发明，能够提供一种液体组合物，其是用于对包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物，所述液体组合物包含(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物(其中，不包括咖啡因)1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0。