公开(公告)号：CN106610567B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201610860457.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑瑟基 ,  金旼秀 ,  金瑆焕 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金永珉 ,  金有那 ,  金眞亨 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  李忠宪 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN115710346A

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN202211012008.0

申请日：2022-08-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金惠廷 ,  金修熙 ,  金有那 ,  朴亨锡 ,  尹熙灿 ,  李在哲 ,  李种和 ,  郑瑟基 ,  蔡闰珠 ,  黄元宗

IPC: C08G61/10 ,  G03F1/48 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、由硬掩模组合物制造的硬掩模层、以及由硬掩模组合物形成图案的方法，硬掩模组合物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元和由化学式2表示的结构单元，以及溶剂：其中化学式1和化学式2的定义如说明书中所描述。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN115774377A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211082480.1

申请日：2022-09-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金有那 ,  金惠廷 ,  梁善暎

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元和由化学式2表示的结构单元：其中，在化学式1和化学式2的定义中如本说明书中所描述。[化学式1][化学式2]。

公开(公告)号：CN106610567A

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201610860457.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑瑟基 ,  金旼秀 ,  金瑆焕 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金永珉 ,  金有那 ,  金眞亨 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  李忠宪 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。