公开(公告)号：CN119472168A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411093299.X

申请日：2024-08-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曺雅罗 ,  崔有廷 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  阵和英 ,  金圣振

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物、光酸产生剂及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合，所述光酸产生剂在空气氛围(空气气体)中在205℃下进行热重分析(TGA)期间从测量时间起3分钟后具有约0％的质量减少率。化学式1及化学式2的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#

公开(公告)号：CN119024641A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410640016.2

申请日：2024-05-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴时均 ,  金旼秀 ,  裵鎭希 ,  文炯朗 ,  郭泽秀 ,  扈锺必 ,  柳东完 ,  曺雅罗 ,  宋明洙 ,  朴庆熏 ,  崔晋喜

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 一种被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠和/或作为含金属抗蚀剂的显影剂组合物的组合物是无水的，并且包含有机溶剂和选自氨基酸类化合物、含硫的酸化合物和含硫的胺类化合物中的至少一种添加剂。一种组合物、使用所述组合物形成图案的方法及形成图案的系统，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布本实施例的被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠的所述组合物；进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂膜；对含金属的抗蚀剂膜进行曝光；以及利用含金属抗蚀剂的显影剂组合物对含金属的抗蚀剂膜进行显影。

公开(公告)号：CN119511636A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411120102.7

申请日：2024-08-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金圣振 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  李恩受 ,  曺雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/004

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及一种使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂底层组合物包含包括由化学式1表示的结构单元的聚合物、以及溶剂。化学式1的定义如本说明书中所阐述。化学式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN119472167A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411088290.X

申请日：2024-08-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 阵和英 ,  崔有廷 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  金圣振 ,  曺雅罗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物、由化学式3表示的化合物及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合。化学式1到化学式3的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#化学式3(R1)x(R2)y(R3)Sn‑(R4)(3‑x‑y)。