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公开(公告)号:CN114075118B
公开(公告)日:2025-03-18
申请号:CN202110917652.1
申请日:2021-08-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C07C211/61 , C09K11/06 , H10K85/60 , H10K50/155 , H10K50/165
Abstract: 提供胺化合物和包括其的有机发光器件,所述胺化合物由式1表示。式1中的取代基和参数的描述与在详述的说明书中提供的相同。式1#imgabs0#
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公开(公告)号:CN116178445A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202210874042.2
申请日:2022-07-18
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开有机金属化合物和包括其的有机发光器件。所述有机金属化合物由式1表示,其中,在式1中,M1为元素周期表的第一行过渡金属、元素周期表的第二行过渡金属、或元素周期表的第三行过渡金属,L11为由式1‑1表示的配体,L12为单齿配体或双齿配体,n11为1,且n12为0、1、或2,其中其它基团和参数如详细描述中所描述的。式1M1(L11)n11(L12)n12式1‑1。
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公开(公告)号:CN110739405A
公开(公告)日:2020-01-31
申请号:CN201910565770.3
申请日:2019-06-27
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开有机发光器件,其包括第一电极;面对所述第一电极的第二电极;以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层,其中所述有机层包括发射层,所述发射层包括第一化合物、第二化合物、和第三化合物,且所述第一化合物和所述第二化合物彼此不同,所述第一化合物和所述第二化合物各自发射光,所述第三化合物不发射光,且所述第一化合物和所述第二化合物满足如本文中描述的条件和不等式。
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公开(公告)号:CN108376743A
公开(公告)日:2018-08-07
申请号:CN201810039080.X
申请日:2018-01-16
Applicant: 三星电子株式会社 , 三星SDI株式会社 , 梨花女子大学校产学协力团
CPC classification number: H01L51/5004 , H01L51/0072 , H01L51/0085 , H01L51/5012 , H01L51/5016 , H01L2251/308 , H01L2251/552 , H01L2251/554 , H01L51/5024 , H01L51/56
Abstract: 公开有机发光器件。所述有机发光器件包括第一电极、面对第一电极的第二电极、以及设置在第一电极和第二电极之间的有机层,其中有机层包括发射层,其中发射层包括主体和掺杂剂,和其中有机发光器件满足在说明书中描述的预定的条件。
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公开(公告)号:CN118251007A
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202410340181.6
申请日:2018-06-22
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供包括堆叠结构和沟槽的半导体装置,其包括:硅基底;多个块,包括主块和虚设块;多个沟槽,包括主沟槽和虚设沟槽;第一导电图案,在主沟槽内;第二导电图案,在虚设沟槽内;第一间隔件绝缘层,接触第一导电图案;以及第二间隔件绝缘层,接触第二导电图案。块包括:层间绝缘层和栅电极的堆叠体;和穿透堆叠体的柱。栅电极包括:最下栅电极、第一栅电极和第二栅电极。层间绝缘层包括:最下层间绝缘层;第一层间绝缘层,在最下栅电极与第一栅电极之间;以及第二层间绝缘层,在第一栅电极与第二栅电极之间。第二导电图案的最下端在比第一导电图案的最下端更高的水平处。第二导电图案的最下端与硅基底间隔开。第一导电图案的最下端接触硅基底。
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公开(公告)号:CN109427806B
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN201810653341.7
申请日:2018-06-22
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括位于基底上的多个块。沟槽设置在多个块之间。导电图案形成在沟槽内部。沟槽中的最外面的沟槽的下端形成在比与最外面的沟槽相邻的沟槽的下端的水平高的水平处。多个块中的每个包括交替且重复地堆叠的绝缘层和栅电极。柱沿与基底的上表面正交的方向穿过绝缘层和栅电极。
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