公开(公告)号：CN1266204A

公开(公告)日：2000-09-13

申请号：CN00106506.8

申请日：2000-02-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李定观 ,  田宪秀 ,  申铉国

IPC: G03F7/26 ,  G02B3/06

CPC classification number: H01S5/18388 ,  G02B3/00 ,  H01S5/0207 ,  H01S5/18311

Abstract: 一种微透镜,通过利用具有用来限定半导体元件上的成为微透镜的凸形表面的开口的蚀刻掩模,在化学蚀刻溶液中蚀刻半导体元件形成,所述溶液含有能对半导体进行限制扩散蚀刻的蚀刻剂;和一种微透镜和垂直空腔表面辐射激光器(VCSEL)的组合,其中微透镜形成在由限制扩散蚀刻的激光辐射表面的窗口区域上。

公开(公告)号：CN111755470A

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN201911270481.7

申请日：2019-12-11

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 朴研相 ,  卢永瑾 ,  田宪秀

IPC: H01L27/15 ,  H01L33/06 ,  H01L33/30

Abstract: 一种使用多波长光的光学装置包括：基板；以及发光阵列，设置在基板上，且包括发射具有不同波长的多个光的多个发光器件。该光学装置包括控制器，其被配置为控制所述发光阵列使得所述多个光被不同地调制并同时发射。