公开(公告)号：CN1658071A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN200410075896.6

申请日：2004-11-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李东勋 ,  安钟现 ,  柳到烈 ,  姜成建

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70633 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2223/54466 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明涉及一种用于测量和校正图案对准误差的叠层标记。该叠层标记包括至少一形成在半导体衬底上的孔阵列和至少一靠近孔阵列的线沟槽。孔阵列可沿着预定方向靠近线沟槽形成。当检测形成在半导体衬底的预定部分的图案的对准误差时，叠层标记可提供具有理想宽度和高水平的光对比度，从而可以利用叠层标记精确检测并校正形成在半导体衬底上的图案的对准误差。

公开(公告)号：CN101005061B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200610142018.0

申请日：2006-09-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 柳到烈

IPC: H01L23/544 ,  H01L21/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在用于测量衬底上的第一和第二层之间的覆盖精确度的覆盖键标中，可以在第一层中形成第一标记，以及可以在第二层上形成第二标记。第一标记可以包括第一图形，第一图形具有第一间距并在第一方向上延伸。第二标记可以包括在基本上与第一方向相同的方向上延伸并具有基本上等于第一间距的第二间距的第二图形。第一和第二图像可以由第一和第二标记获得。覆盖精确度可以由通过在第一和第二图像上覆盖具有第三间距的测试图像形成的第一和第二干涉条纹的位置信息产生。

公开(公告)号：CN101005061A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200610142018.0

申请日：2006-09-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 柳到烈

IPC: H01L23/544 ,  H01L21/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在用于测量衬底上的第一和第二层之间的覆盖精确度的覆盖键标中，可以在第一层中形成第一标记，以及可以在第二层上形成第二标记。第一标记可以包括第一图形，第一图形具有第一间距并在第一方向上延伸。第二标记可以包括在基本上与第一方向相同的方向上延伸并具有基本上等于第一间距的第二间距的第二图形。第一和第二图像可以由第一和第二标记获得。覆盖精确度可以由通过在第一和第二图像上覆盖具有第三间距的测试图像形成的第一和第二干涉条纹的位置信息产生。