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公开(公告)号：CN118248512A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311186594.5
申请日：2023-09-14
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 李昌宪 , 南象基 , 尹贵玹 , 李基浩 , 李相昊 , 李相昕 , 李在民 , 赵贞贤 , 崔舒筵
IPC: H01J37/32
Abstract: 提供了等离子体处理设备，该等离子体处理设备包括：位于一腔室中的衬底卡盘；围绕所述衬底卡盘的外周边的约束环；位于所述约束环上的可移动环；和被配置为使所述可移动环移动的致动器，其中，通过所述可移动环的移动来敞开或封闭形成在所述约束环中的开槽。另外，提供了使用该等离子体处理设备的等离子体处理方法。
