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公开(公告)号：CN119225128A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410726821.7
申请日：2024-06-06
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 柳亨周 , 权徒敬 , 金相辰 , 朴昌敏
IPC: G03F7/38 , H05B3/00
Abstract: 提供形成光致抗蚀剂图案的方法和烘烤设备。光致抗蚀剂层可形成在基底上。可对光致抗蚀剂层进行曝光工艺。可在光致抗蚀剂层中在基本上垂直于基底的上表面的竖直方向上有温度梯度的情况下对光致抗蚀剂层进行曝光后烘烤(PEB)工艺。可对光致抗蚀剂层进行显影工艺。
