曝光系统及其控制方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101419408B

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN200810125995.9

    申请日:2008-06-19

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70258 G03F7/70275

    Abstract: 一种曝光系统及其控制方法,该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法,可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外,可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件,所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域,所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤:确定曝光模式是否改变;如果曝光模式被改变,则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。

    无掩模曝光方法和设备以及制造半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN109856924A

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201811351362.X

    申请日:2018-11-14

    Abstract: 本申请提供一种无掩模曝光方法、一种无掩模曝光设备和一种制造半导体装置的方法。无掩模曝光方法包括:将从光源输出的光空间调制成具有掩模图案的图案光束;将调制的图案光束会聚成第一组点光束和第二组点光束,第一组点光束在实质上与目标层的曝光表面垂直的Z轴上具有第一焦点位置,第二组点光束具有与第一焦点位置不同的第二焦点位置;并且利用第一组点光束和第二组点光束扫描目标层。目标层具有第一高度和与第一高度不同的第二高度。

    衬底支承和转移设备和方法及利用其制造显示设备的方法

    公开(公告)号:CN109748105A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201811230150.6

    申请日:2018-10-22

    Inventor: 洪尚俊 朴相玄

    Abstract: 一种衬底支承和转移设备及方法、制造显示设备的方法,所述设备包括:穿梭件,其被构造为在x方向和y方向上运动,y方向垂直于x方向;穿梭件上的下楔形块,下楔形块包括与穿梭件的上表面平行的下表面以及相对于下楔形块的下表面倾斜的上表面;下楔形块上的上楔形块,上楔形块包括与下楔形块的上表面平行的下表面和与穿梭件的上表面平行的上表面;以及上楔形块上的卡盘,卡盘被构造为支承衬底。

    曝光系统及其控制方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101419408A

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200810125995.9

    申请日:2008-06-19

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70258 G03F7/70275

    Abstract: 一种曝光系统及其控制方法,该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法,可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外,可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件,所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域,所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤:确定曝光模式是否改变;如果曝光模式被改变,则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。

    无掩模曝光装置和方法以及半导体设备的制造方法

    公开(公告)号:CN110780538A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201910332630.1

    申请日:2019-04-24

    Abstract: 一种无掩模曝光装置,包括光源、光学头(包括光调制器和光学系统,并且反射来自光源的光以将光辐射到要曝光的基板)、支撑基板并在扫描方向上移动基板的平台,其中旋转基板使得基板的参考线相对于扫描方向成第一角度,以及旋转光学头的光学头旋转单元。当在基板上在实质上垂直于参考线的第一行和第n行的方向上形成图案时,设置第一角度使得由光束点阵列在基板上的、分别对应于第一行的图案和第n行的图案的第一部分和第二部分中累积的照度变化。

    图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN110687754A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201910243009.8

    申请日:2019-03-28

    Abstract: 本发明提供了一种图案宽度校正系统以及一种制造半导体设备的方法。所述图案宽度校正系统包括:图案宽度测量单元,配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度,其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的;第一误差数据计算器,配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据;回归分析器,配置为对所述第一误差数据进行回归分析,以在所述第一图案的X-Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间生成第一关系表达式;第二误差数据计算器,配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据;以及图案数据校正单元,配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。

    卡盘驱动装置和基底处理设备

    公开(公告)号:CN110911296B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN201910752569.6

    申请日:2019-08-15

    Abstract: 提供一种卡盘驱动装置和基底处理设备。所述卡盘驱动装置包括在第一方向和第二方向上延伸的基体。第二方向与第一方向交叉。卡盘驱动装置还包括:滑块,布置在基体上并被构造为在与第一方向和第二方向基本垂直的第三方向上移动;以及气缸,布置在基体上并在第三方向上支撑滑块。卡盘驱动装置另外包括电机组件,所述电机组件布置在基体上,围绕气缸,并且被构造为在第三方向上驱动滑块。电机组件包括:线圈基体,具有围绕气缸的侧面设置的中空部分;线圈组件,布置在线圈基体上并围绕气缸的侧面设置;以及磁体组件,与线圈组件的一部分相邻。

    卡盘驱动装置和基底处理设备

    公开(公告)号:CN110911296A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201910752569.6

    申请日:2019-08-15

    Abstract: 提供一种卡盘驱动装置和基底处理设备。所述卡盘驱动装置包括在第一方向和第二方向上延伸的基体。第二方向与第一方向交叉。卡盘驱动装置还包括:滑块,布置在基体上并被构造为在与第一方向和第二方向基本垂直的第三方向上移动;以及气缸,布置在基体上并在第三方向上支撑滑块。卡盘驱动装置另外包括电机组件,所述电机组件布置在基体上,围绕气缸,并且被构造为在第三方向上驱动滑块。电机组件包括:线圈基体,具有围绕气缸的侧面设置的中空部分;线圈组件,布置在线圈基体上并围绕气缸的侧面设置;以及磁体组件,与线圈组件的一部分相邻。

Patent Agency Ranking