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公开(公告)号：CN117476497A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310854901.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 公开了一种等离子体处理设备。所述等离子体处理设备包括：装载锁定腔室，能够在大气压力状态与真空压力状态之间切换；以及基底处理设备，被配置为：将基底传送到装载锁定腔室和从装载锁定腔室传送基底，并且在真空环境下在等离子体腔室中对基底的表面执行等离子体处理。基底处理设备包括：基底载台，设置在等离子体腔室内并且被配置为支撑基底；等离子气体供应器，被配置为将等离子气体供应到等离子体腔室中；蒸汽供应器，被配置为将水蒸气供应到等离子体腔室中；以及等离子体生成器，被配置为在等离子体腔室中生成等离子体。
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公开(公告)号：CN110911296B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201910752569.6
申请日：2019-08-15
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种卡盘驱动装置和基底处理设备。所述卡盘驱动装置包括在第一方向和第二方向上延伸的基体。第二方向与第一方向交叉。卡盘驱动装置还包括：滑块，布置在基体上并被构造为在与第一方向和第二方向基本垂直的第三方向上移动；以及气缸，布置在基体上并在第三方向上支撑滑块。卡盘驱动装置另外包括电机组件，所述电机组件布置在基体上，围绕气缸，并且被构造为在第三方向上驱动滑块。电机组件包括：线圈基体，具有围绕气缸的侧面设置的中空部分；线圈组件，布置在线圈基体上并围绕气缸的侧面设置；以及磁体组件，与线圈组件的一部分相邻。
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公开(公告)号：CN110911296A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201910752569.6
申请日：2019-08-15
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种卡盘驱动装置和基底处理设备。所述卡盘驱动装置包括在第一方向和第二方向上延伸的基体。第二方向与第一方向交叉。卡盘驱动装置还包括：滑块，布置在基体上并被构造为在与第一方向和第二方向基本垂直的第三方向上移动；以及气缸，布置在基体上并在第三方向上支撑滑块。卡盘驱动装置另外包括电机组件，所述电机组件布置在基体上，围绕气缸，并且被构造为在第三方向上驱动滑块。电机组件包括：线圈基体，具有围绕气缸的侧面设置的中空部分；线圈组件，布置在线圈基体上并围绕气缸的侧面设置；以及磁体组件，与线圈组件的一部分相邻。
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