公开(公告)号：CN103676496B

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：CN201310314179.3

申请日：2013-07-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴昌敏 ,  朴柱温 ,  吕政浩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2006 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/003 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

Abstract: 提供了一种用于生成EUV光的设备，所述设备可以包括微滴供应单元、激光照射单元、聚光单元和引导单元。微滴供应单元可以供应可以由其生成EUV光的微滴。激光照射单元可以将激光照射到由微滴供应单元供应的微滴以生成EUV光。聚光单元可以使通过激光照射单元生成的EUV光聚集。引导单元可以将微滴引导到激光可以照射到的位置。引导单元可以具有用于将气体喷射到微滴供应单元与激光照射位置之间的空间以形成被构造成围绕微滴的气幕的至少一个气体喷射孔。

公开(公告)号：CN103676496A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310314179.3

申请日：2013-07-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴昌敏 ,  朴柱温 ,  吕政浩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2006 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/003 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

Abstract: 提供了一种用于生成EUV光的设备，所述设备可以包括微滴供应单元、激光照射单元、聚光单元和引导单元。微滴供应单元可以供应可以由其生成EUV光的微滴。激光照射单元可以将激光照射到由微滴供应单元供应的微滴以生成EUV光。聚光单元可以使通过激光照射单元生成的EUV光聚集。引导单元可以将微滴引导到激光可以照射到的位置。引导单元可以具有用于将气体喷射到微滴供应单元与激光照射位置之间的空间以形成被构造成围绕微滴的气幕的至少一个气体喷射孔。