公开(公告)号：CN100570827C

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200680011703.8

申请日：2006-04-14

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 江藤彰纪 ,  大池节子 ,  石塚友和 ,  藤井重治 ,  进藤清孝

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

Abstract: 本发明提供一种可以确保良好的研磨速度的同时抑制底层的损伤的研磨材料浆。该研磨材料浆包括含有酰胺基的树脂(A)和有机树脂(B)。

公开(公告)号：CN1943018A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200580011569.7

申请日：2005-04-28

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 进藤清孝 ,  江藤彰纪 ,  石塚友和

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供了显著抑制划伤(scratch)或碟陷(dishing)、侵蚀(erosion)发生的研磨用浆料。所述研磨用浆料为含有有机粒子(A)、氧化剂、络合剂的研磨用浆料，所述有机粒子(A)为，表面含有能够与被研磨金属反应的官能团的有机粒子(B)的表面一部分被不含有能够与被研磨金属反应的官能团的树脂(C)被覆的物质。有机粒子(B)优选为含有共聚物的有机粒子，其中，所述共聚物是聚合具有下述组成的单体组合物而得到的共聚物：以全部单体的重量为基数，含有1～50重量％的从含有羧酸基的单体、含有羟基的单体、含有氨基的单体、含有乙酰乙酰氧基的单体和含有缩水甘油基的单体中选出的1种或2种以上的单体，以及99～50重量％的其它单体。

公开(公告)号：CN104379340B

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B27/08 ,  B32B27/28 ,  H01L31/048 ,  B32B37/18

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

公开(公告)号：CN104379340A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  B32B37/00 ,  H01L31/048

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

公开(公告)号：CN101156229A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200680011703.8

申请日：2006-04-14

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 江藤彰纪 ,  大池节子 ,  石塚友和 ,  藤井重治 ,  进藤清孝

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

Abstract: 本发明提供一种可以确保良好的研磨速度的同时抑制底层的损伤的研磨材料浆。该研磨材料浆包括含有酰胺基的树脂(A)和有机树脂(B)。