公开(公告)号：CN104379340B

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B27/08 ,  B32B27/28 ,  H01L31/048 ,  B32B37/18

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

公开(公告)号：CN104379340A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  B32B37/00 ,  H01L31/048

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。