一种通过金膜退火制备金纳米颗粒的方法
Abstract:
本发明公开了一种通过金膜退火制备金纳米颗粒的方法,该方法包括如下步骤:采用磁控溅射或真空蒸镀方法在基底材料(1)上沉积金纳米薄膜(2),磁控溅射腔体或真空蒸镀室真空度为10-3-10-4Pa,沉积的金纳米薄膜(2)膜厚为5-20纳米;然后把沉积金纳米薄膜(2)和基底材料(1)整体置于退火炉中加热30-120分钟,加热温度为350-600ºC,冷却至室温,在基底材料(1)上形成金纳米颗粒(3)。本发明通过控制金膜膜厚、退火温度、退火时间等参数可得到大小和形貌不同的金纳米粒子,该方法具有制备简单,纳米颗粒尺寸形貌可控,制备效率高等优点。
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