公开(公告)号：CN101437644B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200780013897.X

申请日：2007-02-23

Applicant: 皮科德昂有限公司

Inventor： J·卢图 ,  R·拉帕莱纳恩 ,  V·梅里马吉 ,  L·普里 ,  J·马吉塔罗

IPC: B23K26/06 ,  C23C14/28

CPC classification number: C23C14/28 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/087

Abstract: 本发明的主题是基于激光烧蚀的涂覆方法，其中基体和要烧蚀的靶之间距离非常小。短的距离允许甚至以工业规模、也优选在低真空或甚至非真空气氛下涂覆基体。本发明优选涉及所有大尺寸物体或具有变化形状的物体的最理想的涂层。

公开(公告)号：CN104204271A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201280056594.7

申请日：2012-09-17

Applicant: 皮科德昂有限公司 ,  卡尔博迪昂有限公司

Inventor： V.迈莱梅基 ,  J.黑赖南 ,  M.考皮南

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/0658 ,  C23C14/06

Abstract: 一种涂镀材料，用于通过激光消融来涂镀基板。该涂镀材料包含石墨氮化碳和掺杂物以便与纯氮化碳的涂层相比改变所制作的涂层的特性。

公开(公告)号：CN101437644A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200780013897.X

申请日：2007-02-23

Applicant: 皮科德昂有限公司

Inventor： J·卢图 ,  R·拉帕莱纳恩 ,  V·梅里马吉 ,  L·普里 ,  J·马吉塔罗

IPC: B23K26/06 ,  C23C14/28

CPC classification number: C23C14/28 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/087

Abstract: 本发明的主题是基于激光烧蚀的涂覆方法，其中基体和要烧蚀的靶之间距离非常小。短的距离允许甚至以工业规模、也优选在低真空或甚至非真空气氛下涂覆基体。本发明优选涉及所有大尺寸物体或具有变化形状的物体的最理想的涂层。

公开(公告)号：CN101421071A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780010348.7

申请日：2007-02-23

Applicant: 皮科德昂有限公司

Inventor： R·拉帕莱纳恩 ,  V·迈利梅基 ,  L·普利 ,  J·梅基塔洛

IPC: B23K26/06 ,  C23C14/28

CPC classification number: C23C14/28 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/087 ,  C23C14/12 ,  C23C14/20 ,  Y10T428/26

Abstract: 本发明涉及用于涂覆具有一个或多个表面的物体的激光烧蚀方法，以便通过烧蚀靶材来涂覆被涂物体，即基板，从而使淀积在被涂物体上的表面的均匀度为±100nm。被涂物体的表面有利的是没有微米尺寸颗粒的，其通常在技术上为纳米表面，其中单个颗粒的尺寸最大为±25nm。本发明还涉及通过所述方法制造的产品。