公开(公告)号：CN104339763A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410366756.8

申请日：2014-07-29

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 长谷川绫子 ,  早川纯司 ,  间宫贵稔 ,  二宫贡治 ,  佐藤基和 ,  牛岛康孝

IPC: B32B15/04 ,  B32B17/00 ,  C23D5/02 ,  C23D11/00

CPC classification number: B32B15/04 ,  B32B17/061 ,  C23D5/02 ,  C23D11/00

Abstract: 本发明在于提供即使瓷釉层的厚度薄其表面也具有光滑的良好外观的珐琅(enamel)物品。一种珐琅物品，其为在基材上形成有瓷釉层的珐琅物品，其特征在于，所述基材为铸铁，所述瓷釉层的厚度为0.1mm以上1.0mm以下，所述瓷釉层表面通过微波扫描测定装置所测定的Wd值为0＜Wd≤60。更优选所述珐琅物品为从所述基材表面向所述瓷釉层表面方向上的0.05mm为止的区域中烧成后的组成为SiO2＞55重量％。

公开(公告)号：CN104339763B

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201410366756.8

申请日：2014-07-29

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 长谷川绫子 ,  早川纯司 ,  间宫贵稔 ,  二宫贡治 ,  佐藤基和 ,  牛岛康孝

IPC: B32B15/04 ,  B32B17/00 ,  C23D5/02 ,  C23D11/00

Abstract: 本发明在于提供即使瓷釉层的厚度薄其表面也具有光滑的良好外观的珐琅(enamel)物品。一种珐琅物品，其为在基材上形成有瓷釉层的珐琅物品，其特征在于，所述基材为铸铁，所述瓷釉层的厚度为0.1mm以上1.0mm以下，所述瓷釉层表面通过微波扫描测定装置所测定的Wd值为0＜Wd≤60。更优选所述珐琅物品为从所述基材表面向所述瓷釉层表面方向上的0.05mm为止的区域中烧成后的组成为SiO2＞55重量％。