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公开(公告)号：CN110527512A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910433994.9
申请日：2019-05-23
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , C07F7/18 , C07F9/50 , C07F9/6596 , C07F9/53
Abstract: 一种蚀刻剂组合物，其包括磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：[化学式1]其中A为n价基团，L为C1-C5亚烃基，R1-R3独立地为氢、羟基、烃基或烷氧基，其中R1-R3各自存在或通过杂元素相互连接，n为2-5的整数。
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公开(公告)号：CN106467754B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201610689209.2
申请日：2016-08-19
IPC: C10G29/22
CPC classification number: C10G17/04 , B01D11/0446 , B01D11/0488 , B01D11/0492 , C10G17/02 , C10G31/08 , C10G53/06 , C10G2300/205 , C10G2300/4081 , C10G2300/80
Abstract: 本发明公开了一种从烃油中除去金属的方法，包括：提供含有烃油的原料；将所述原料与含有金属清除剂的水溶液混合，以制备第一混合物；将所述第一混合物分离成第一水溶液相和第一烃相，并排出所述分离出的第一水溶液相；将分离出的所述第一烃相与洗涤水混合，以产生第二混合物；将所述第二混合物分离成第二水溶液相和第二烃相；以及回收所述分离出的第二烃相并将所述分离出的第二水溶液相再循环。本发明的方法减少了整个工艺中水的使用并且容易且有效地从烃油中除去了金属组分。
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公开(公告)号：CN105051053B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201480016363.2
申请日：2014-03-20
Applicant: SK新技术株式会社
Abstract: 本发明提供了在使用由包括季铵盐的席夫碱型配体合成的新络合物作为催化剂制备二氧化碳/环氧化物的共聚物的过程中，使用分子量调节剂制备聚(碳酸亚烃酯)的方法。根据本发明，即使使用分子量调节剂，仍可稳定地保持催化剂的活性，由此可有效地提供具有期望水平的低分子量的聚(碳酸亚烃酯)。另外，预期因为作为本发明催化剂的新络合物相较于现有共聚催化剂结构简单，由于其经济的制备成本，该新络合物可有效地用于大规模商业过程。
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公开(公告)号：CN107868194A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710869088.4
申请日：2017-09-22
IPC: C08F293/00 , C08F220/14 , C08F212/08 , C08F212/14 , G03F7/00 , G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L21/311 , H01L21/3213
CPC classification number: C08F220/18 , C08F12/20 , C08F114/185 , C08F212/08 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C09D153/00 , H01L21/0271 , H01L21/31138 , C08F212/14 , C08F220/14 , G03F7/0002 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/0273 , H01L21/0335 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/3088 , H01L21/31116 , H01L21/32139
Abstract: 本发明提供了一种形成精细图案的方法，该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR，从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R1-R5、X1-X5、l、n和m如权利要求1中所定义。
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公开(公告)号：CN107868193A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710868378.7
申请日：2017-09-22
IPC: C08F293/00 , C08F212/08 , C08F212/14
CPC classification number: C08F214/18 , C08F2/38 , C08F4/04 , C08F12/20 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C09D153/00 , G01Q60/24 , H01J37/28 , C08F212/14
Abstract: 本发明提供一种二嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1] [化学式2] 其中R1-R5、X1-X5、l、n和m如权利要求1所定义。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109422848B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201810754156.7
申请日：2018-07-11
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08F220/14 , C08F212/08 , C08F220/36 , C08F212/14 , C09D133/14
Abstract: 本发明涉及促进形成定向自组装图案的用于形成中性层的无规共聚物及包含其的用于形成图案的层压体、利用其形成高品质图案的方法。
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公开(公告)号：CN106565952B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201610557190.6
申请日：2016-07-14
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供用于半导体和显示器制造工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性、平坦化特性和优异的耐热性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN106565952A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201610557190.6
申请日：2016-07-14
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供用于半导体和显示器制造工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性、平坦化特性和优异的耐热性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN104838535A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201380063602.5
申请日：2013-12-05
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0566 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M10/0566 , H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M2300/0025 , H01M2300/0037
Abstract: 本发明涉及一种用于锂二次电池的电解液及包含其的锂二次电池，所述电解液在高电压下高温放置时，由于不会被氧化/分解，因此能够抑制气体的产生，从而防止电池的膨胀，在降低电池厚度增加率的同时，还具有优异的高温储藏特性。
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公开(公告)号：CN104698123A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201410742904.1
申请日：2014-12-05
Abstract: 本发明提供了通过使由油标记物组合物标记的油与显色剂反应以显色，然后测定吸光度来鉴定油真伪的方法。根据本发明，提供了一种油标记物，由于其的快速反应速率、优良重现性和可通过肉眼观察到的明显显色，能定量定性地测定油的真伪；以及提供使用其鉴定油的方法。
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