公开(公告)号：CN103391831B

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201280009339.7

申请日：2012-02-09

Applicant: NTT尖端技术株式会社 ,  富贵工程株式会社

Inventor： 安东和俊 ,  木村敏典 ,  水野贞明

IPC: B24B19/00 ,  B24B41/06

CPC classification number: B24B19/226

Abstract: 本发明提供一种能够削减为了维持研磨精度而需要定期地更换的消耗部件数量的研磨装置。研磨装置具备：研磨盘（20），其正面具有研磨工件的端面的研磨面（20a）；支撑机构（30），其支撑研磨盘（20）的背面（20b），使研磨盘（20）沿着预定平面自由移动；工件支架（50），其保持工件，使得工件的端面与研磨盘（20）的研磨面抵接；以及驱动机构（70），其使研磨盘（20）一边进行圆周运动一边进行往复直线运动。

公开(公告)号：CN103391831A

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201280009339.7

申请日：2012-02-09

Applicant: NTT尖端技术株式会社 ,  富贵工程株式会社

Inventor： 安东和俊 ,  木村敏典 ,  水野贞明

IPC: B24B19/00 ,  B24B41/06

CPC classification number: B24B19/226

Abstract: 本发明提供一种能够削减为了维持研磨精度而需要定期地更换的消耗部件数量的研磨装置。研磨装置具备：研磨盘（20），其正面具有研磨工件的端面的研磨面（20a）；支撑机构（30），其支撑研磨盘（20）的背面（20b），使研磨盘（20）沿着预定平面自由移动；工件支架（50），其保持工件，使得工件的端面与研磨盘（20）的研磨面抵接；以及驱动机构（70），其使研磨盘（20）一边进行圆周运动一边进行往复直线运动。