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公开(公告)号：CN101344716A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810136145.9
申请日：2008-07-10
Applicant: NEC液晶技术株式会社
Abstract: 一种用于形成具有不同膜厚度的不同抗蚀图案的半色调掩模，所述半色调掩模包括：用于形成第一抗蚀图案的第一掩模图案；用于形成具有小于第一抗蚀图案的膜厚度的第二抗蚀图案的第二掩模图案；以及形成第二掩模图案的至少部分边缘区域的第三掩模图案。第三掩模图案用于形成具有大于第二抗蚀图案的膜厚度的第三抗蚀图案。
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