公开(公告)号：CN1702529A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510069740.1

申请日：2005-03-30

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 樱井洋

IPC: G02F1/136 ,  H01L29/786 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/42

CPC classification number: G02F1/13454 ,  H01L27/1288

Abstract: 本发明提供一种液晶显示面板及其制造方法。在液晶显示面板中，该显示面板用于通过以薄膜晶体管驱动矩阵阵列中的多个像素区域来显示图像数据，其中把在显示部分中的薄膜晶体管和外围薄膜晶体管形成为相同尺寸(即外形)的薄膜晶体管。

公开(公告)号：CN100388105C

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200510081052.7

申请日：2005-06-28

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 樱井洋 ,  木村茂

IPC: G02F1/136 ,  G02F1/133

CPC classification number: G02F1/136259 ,  G02F1/136209 ,  G02F2001/136272

Abstract: 液晶显示基板包括下述结构，其中在与栅极总线相同的层上形成遮光导电膜，在漏极总线与透明像素电极之间具有间隙。在漏极总线上形成多个突出使其朝向遮光导电膜突出。此外，遮光导电膜形成为仅在突出处与漏极总线重叠。当在漏极总线上发生断开时，通过将激光束照射在位于断开部分的两侧的突出上而将突出焊接并连接到遮光导电膜，从而形成可替换的路径。

公开(公告)号：CN101620374A

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200910166931.8

申请日：2009-05-20

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 樱井洋

IPC: G03F1/08 ,  G03F1/14 ,  H01L21/82

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G03F1/36 ,  G03F1/50 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明提供一种曝光用掩模、使用该曝光用掩模的薄膜晶体管基板的制造方法、和由该方法制造的显示良好的液晶显示装置，其中，该曝光用掩模可以提高半膜厚部分的抗蚀剂膜厚的均匀性，降低显示不良，并提高制造成品率。在该曝光用掩模中，在透光性的基板上形成遮光图案，在该遮光图案的至少一部分上，该曝光用掩模具有形成了由曝光机的临界分辨率以下的宽度尺寸的纵长的缝隙状透过图案夹着的所述临界分辨率以下的宽度尺寸的纵长的遮光图案的灰色调区域，所述灰色调区域的遮光率从所述纵长的遮光图案的长边方向端部朝向中央部逐渐减小。

公开(公告)号：CN1716068A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200510081052.7

申请日：2005-06-28

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 樱井洋 ,  木村茂

IPC: G02F1/136 ,  G02F1/133

CPC classification number: G02F1/136259 ,  G02F1/136209 ,  G02F2001/136272

Abstract: 液晶显示基板包括下述结构，其中在与栅极总线相同的层上形成遮光导电膜，在漏极总线与透明像素电极之间具有间隙。在漏极总线上形成多个突出使其朝向遮光导电膜突出。此外，遮光导电膜形成为仅在突出处与漏极总线重叠。当在漏极总线上发生断开时，通过将激光束照射在位于断开部分的两侧的突出上而将突出焊接并连接到遮光导电膜，从而形成可替换的路径。