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公开(公告)号：CN101043049A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710088746.2
申请日：2007-03-22
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
IPC: H01L29/49 , H01L29/786 , H01L23/532 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L21/768
CPC classification number: H01L29/4908 , H01L29/66757
Abstract: 提供一种由微晶硅薄膜和金属薄膜构成的叠层布线，该叠层布线能够抑制微晶硅薄膜和金属薄膜之间的过多硅化物生成反应，由此防止发生薄膜脱落。在利用叠层布线的多晶硅TFT(薄膜晶体管)中，微晶硅薄膜被构造，使得微晶硅薄膜中的、在微晶硅薄膜的膜厚度方向上的长度为微晶硅薄膜的膜厚度的60％或更大的晶粒，总计为晶粒总数的15％或更少；或者使得微晶硅薄膜中的、在微晶硅薄膜的膜厚度方向上的长度为微晶硅薄膜的膜厚度的50％或更小的晶粒，总计为构成微晶硅薄膜的晶粒总数的85％或更多。
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公开(公告)号：CN1324331C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN02817533.6
申请日：2002-09-05
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
IPC: G02B5/02 , G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F1/08
CPC classification number: G02B5/10 , G02F1/133553 , G03F1/00
Abstract: 公开了一种用于产生针对随机设置在反射液晶显示设备的反射基片的表面上的不平坦的图案数据的设备。从数据输入单元输入坐标数、基本间隔、可移动范围和点直径。阵列发生单元依照基本间隔二维有规律地设置基本坐标。坐标移动单元在部分基本坐标处、在可移动范围内随机移动，以产生多个移动后的坐标。图案发生单元在所产生的移动后的坐标中的每一个处设置具有所输入的点直径的点图案，以产生图案数据。
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公开(公告)号：CN101043049B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200710088746.2
申请日：2007-03-22
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: H01L29/49 , H01L29/786 , H01L23/532 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L21/768
CPC classification number: H01L29/4908 , H01L29/66757
Abstract: 提供一种由微晶硅薄膜和金属薄膜构成的叠层布线，该叠层布线能够抑制微晶硅薄膜和金属薄膜之间的过多硅化物生成反应，由此防止发生薄膜脱落。在利用叠层布线的多晶硅TFT(薄膜晶体管)中，微晶硅薄膜被构造，使得微晶硅薄膜中的、在微晶硅薄膜的膜厚度方向上的长度为微晶硅薄膜的膜厚度的60％或更大的晶粒，总计为晶粒总数的15％或更少；或者使得微晶硅薄膜中的、在微晶硅薄膜的膜厚度方向上的长度为微晶硅薄膜的膜厚度的50％或更小的晶粒，总计为构成微晶硅薄膜的晶粒总数的85％或更多。
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公开(公告)号：CN1554029A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN02817533.6
申请日：2002-09-05
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
IPC: G02B5/02 , G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F1/08
CPC classification number: G02B5/10 , G02F1/133553 , G03F1/00
Abstract: 公开了一种用于产生针对随机设置在反射液晶显示设备的反射基片的表面上的不平坦的图案数据的设备。从数据输入单元输入坐标数、基本间隔、可移动范围和点直径。阵列发生单元依照基本间隔二维有规律地设置基本坐标。坐标移动单元在部分基本坐标处、在可移动范围内随机移动，以产生多个移动后的坐标。图案发生单元在所产生的移动后的坐标中的每一个处设置具有所输入的点直径的点图案，以产生图案数据。
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