公开(公告)号：CN107743582A

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201680034161.X

申请日：2016-04-08

Applicant: LL技术管理公司

Inventor： A·C·博卡拉 ,  F·哈姆斯

IPC: G01N21/47 ,  G01B9/02 ,  G02B21/00 ,  G02B21/36

CPC classification number: G02B21/125 ,  G01B9/02091 ,  G01N21/47 ,  G01N21/4795 ,  G01N2021/4709 ,  G02B21/0004 ,  G02B21/082 ,  G02B21/14 ,  G02B21/18 ,  G06T1/0007 ,  G06T5/50 ,  G06T2207/10101 ,  G02B21/365

Abstract: 本发明涉及一种用于三维散射样品(206)的全场干涉显微镜成像的系统(20)。所述系统包括：-包括参考臂的干涉装置(200)，在该参考臂上布置有反射表面(205)，当样品被放置在目标臂上时，干涉装置适于在成像场的每个点产生通过在对应于成像场的所述点的反射表面(205)的基本表面上使入射光波反射而获得的参考波与通过在给定深度处样品切片的体素对入射光波的后向散射而获得的物体波之间的干涉；所述体素对应于成像场的所述点；-获取装置(208)，其适于以目标臂与参考臂之间的固定光程差来获取由在成像场的每个点处产生的所述干涉所产生的N个二维干涉测量信号的时间序列；以及-处理单元(220)，其被配置为计算表示所述N个二维干涉测量信号之间的强度时间变化的图像(IB,IC)。

公开(公告)号：CN118311759A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202410401819.2

申请日：2016-04-08

Applicant: LL技术管理公司

Inventor： A·C·博卡拉 ,  F·哈姆斯

IPC: G02B21/00 ,  G06T11/00 ,  G06T5/50 ,  G02B21/08 ,  G02B21/12 ,  G02B21/14 ,  G02B21/18 ,  G02B21/36 ,  G01N21/47 ,  G01B9/0209

Abstract: 本发明涉及一种用于三维散射样品的全场干涉显微镜成像的系统。所述系统包括：包括参考臂的干涉装置，在该参考臂上布置有反射表面，当样品被放置在目标臂上时，干涉装置适于在成像场的每个点产生通过在对应于成像场的所述点的反射表面的基本表面上使入射光波反射而获得的参考波与通过在给定深度处样品切片的体素对入射光波的后向散射而获得的物体波之间的干涉；所述体素对应于成像场的所述点；获取装置，其适于以目标臂与参考臂之间的固定光程差来获取由在成像场的每个点处产生的所述干涉所产生的N个二维干涉测量信号的时间序列；以及处理单元，其被配置为计算表示所述N个二维干涉测量信号之间的强度时间变化的图像。