公开(公告)号：CN115268214A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202210464152.1

申请日：2022-04-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中西拓也 ,  蛸岛薫 ,  浅冈高英

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  G03F7/012 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种可形成显影密接性优异的硬化膜的感放射线性组合物、硬化膜及其制法、半导体及显示元件。感放射线性组合物，含有：聚合物，为选自由包含具有式(1)所表示的基或酸解离性基的结构单元(I)的聚合物及硅氧烷聚合物所组成的群组中的至少一种；光酸产生剂；以及具有疏水性基与羟基键结于硅原子上而成的部分结构、且不具有烷氧基的硅醇化合物。式(1)中，R1、R2及R3分别独立地为氢原子、卤素原子、羟基、碳数1～6的烷氧基、碳数1～10的烷基或苯基。其中，R1、R2及R3中的一个以上为碳数1～6的烷氧基。“*”表示键结键。

公开(公告)号：CN119065201A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202410693391.3

申请日：2024-05-31

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 蛸岛薫 ,  三村时生

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成可以充分的水平发挥感度、基板密接性、及低逸气性的硬化膜的感放射线性组合物、由所述感放射线性组合物所形成的硬化膜及其制造方法、包括所述硬化膜的半导体元件、显示元件。本发明涉及一种感放射线性组合物，含有：作为选自由包含具有下述式(1)所表示的基的结构单元(I)的聚合体及硅氧烷聚合物所组成的群组中的至少一种的含硅聚合体(A)；具有一个以上的环结构及两个以上的环氧基的含环氧基的化合物(B)(其中，所述含硅聚合体(A)除外)；以及光酸产生剂(C)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN115963697A

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN202211243548.X

申请日：2022-10-11

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中西拓也 ,  浅冈高英 ,  蛸岛薫 ,  石川大佑

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种可形成显影密接性及硬化密接性优异的膜的感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示装置。一种感放射线性组合物，含有：(A‑1)聚合体，为选自由包含具有式(1)所表示的基或酸解离性基的结构单元的聚合体及硅氧烷聚合物所组成的群组中的至少一种；(B‑1)光酸产生剂；(C‑1)溶剂；以及(E)化合物，具有选自由烷氧基硅烷基、氧杂环丙基、氧杂环丁基、巯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基及氨基所组成的群组中的至少一种官能基(X)、与卡多结构。式(1)中，R1、R2及R3为氢原子、卤素原子、羟基、碳数1～6的烷氧基、碳数1～10的烷基或苯基。其中，R1、R2及R3中的至少一个为碳数1～6的烷氧基。