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公开(公告)号：CN1696827A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510069112.3
申请日：2005-05-10
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供可形成在高感光度下可以忠实再现掩膜图案的设计尺寸，且与基片的粘合性优异，在1500J/m2或以下的曝光量下也可以得到足够的间隔和膜厚，解决了在显影液中光聚合引发剂的析出问题，另外强度，耐热性等也优异的液晶显示元件用间隔的放射线敏感性树脂组合物。通过放射线敏感性树脂组合物实现，其特征在于该组合物是含有[A](a1)乙烯性不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐和(a2)含有环氧基的乙烯性不饱和化合物和(a3)其它乙烯性不饱和化合物的共聚物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，以及[C]光聚合物引发剂的感光性组合物，且[C]光聚合引发剂的含量相对于100重量份[B]为0.1～5重量份。
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公开(公告)号：CN100576075C
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200510008541.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有：[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]以由下列式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂；(见右式)式中，R1表示烷基；R2和R3表示氢原子、烷基或苄基；R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100428027C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200510000493.X
申请日：2005-01-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/133 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，其特征是含有以下成份：[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂，以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
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公开(公告)号：CN1655060A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN200510005113.1
申请日：2005-01-28
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供了一种感放射线性树脂组合物，可以以高的灵敏度忠实地再现掩模图案的设计尺寸，并且与基板具有良好的粘附性，在1,500J/m2以下的曝光量也可以获得理想的间隔物形状和膜厚，此外，可以形成抗压强度和耐摩擦性等俱佳的显示面板用间隔物。该感放射线性树脂组合物含有：[A](a1)不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐、(a2)含有环氧基的不饱和化合物和(a3)其它的不饱和化合物的共聚物；[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物；以及[C]以下列化学式(1)或(2)所示的化合物作为必要成分的感放射线性聚合引发剂。R1表示烷基或苯基，R2表示氢原子、烷基或苯基，R3表示氢原子或者烷基。
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公开(公告)号：CN100538518C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200510005113.1
申请日：2005-01-28
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供了一种感放射线性树脂组合物，可以以高的灵敏度忠实地再现掩模图案的设计尺寸，并且与基板具有良好的粘附性，在1，500J/m2以下的曝光量也可以获得理想的间隔物形状和膜厚，此外，可以形成抗压强度和耐摩擦性等俱佳的显示面板用间隔物。该感放射线性树脂组合物含有：[A](a1)不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐、(a2)含有环氧基的不饱和化合物和(a3)其它的不饱和化合物的共聚物；[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物；以及[C]以下列化学式(1)或(2)所示的化合物作为必要成分的感放射线性聚合引发剂。式中，R1表示烷基或苯基，R2表示氢原子、烷基或苯基，R3表示氢原子或者烷基。
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公开(公告)号：CN1821877A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510008541.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有：[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]以由式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂，式中，R1表示烷基；R2和R3表示氢原子、烷基或苄基；R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。
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公开(公告)号：CN1645220A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510000493.X
申请日：2005-01-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/133
Abstract: 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，其特征是含有以下成分：[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂，以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
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