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公开(公告)号：CN101416131B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200780011630.7
申请日：2007-03-30
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA磁学有限公司
Inventor： 小林巧
Abstract: 本发明提供一种处理数据管理系统、处理系统以及处理装置的数据管理方法，具备：处理装置(磁盘制造用的溅射装置等)(11)，针对每个周期重复进行同一工序处理；采样单元(30)，收集处理装置中的处理条件的原始数据(放电条件等)；运算部件(100)，接收上述原始数据，将原始数据根据一定的规则加工成表现每个周期的特征点的概要数据(特性值：例如平均值、最大值、最小值、标准偏差、放电时间等)；数据保存单元(40)，将该加工出的概要数据保存到存储部件；显示、输出单元(50)，对保存在存储部件中的概要数据进行图表显示。
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公开(公告)号：CN103708708B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201310445292.5
申请日：2013-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供模压成型模具、其制造方法及使用其的玻璃光学元件的制造方法。模压成型模具的制造方法能够成型出外观缺陷少的透镜，模压成型模具具有包含由薄膜形成装置成膜出的碳膜的离型膜。该制造方法为具有离型膜的模压成型模具的制造方法，该离型膜包含碳膜，该碳膜通过下述方式成膜，即：利用真空电弧放电在碳阴极上生成碳等离子体，从碳等离子体中只取出离子化后的碳，将所述离子化后的碳照射到被成膜面上而成膜，该制造方法包括：在被成膜面上一边施加第1偏置电压V（1 V）一边成膜出厚度为d（1 nm）的第1碳膜的工序；以及在第1碳膜上一边施加第2偏置电压V（2 V）一边成膜出形成最外层的厚度为d（2 nm）的第2碳膜的工序，所述第1和第2偏置电压V1、V2以及所述厚度d1、d2满足V1>V2且d1>d2。
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公开(公告)号：CN103708708A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310445292.5
申请日：2013-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供模压成型模具、其制造方法及使用其的玻璃光学元件的制造方法。模压成型模具的制造方法能够成型出外观缺陷少的透镜，模压成型模具具有包含由薄膜形成装置成膜出的碳膜的离型膜。该制造方法为具有离型膜的模压成型模具的制造方法，该离型膜包含碳膜，该碳膜通过下述方式成膜，即：利用真空电弧放电在碳阴极上生成碳等离子体，从碳等离子体中只取出离子化后的碳，将所述离子化后的碳照射到被成膜面上而成膜，该制造方法包括：在被成膜面上一边施加第1偏置电压V1（V）一边成膜出厚度为d1（nm）的第1碳膜的工序；以及在第1碳膜上一边施加第2偏置电压V2（V）一边成膜出形成最外层的厚度为d2（nm）的第2碳膜的工序，所述第1和第2偏置电压V1、V2以及所述厚度d1、d2满足V1>V2且d1>d2。
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公开(公告)号：CN101416131A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200780011630.7
申请日：2007-03-30
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA磁学有限公司
Inventor： 小林巧
Abstract: 本发明提供一种处理数据管理系统、处理系统以及处理装置的数据管理方法，具备：处理装置(磁盘制造用的溅射装置等)(11)，针对每个周期重复进行同一工序处理；采样单元(30)，收集处理装置中的处理条件的原始数据(放电条件等)；运算部件(100)，接收上述原始数据，将原始数据根据一定的规则加工成表现每个周期的特征点的概要数据(特性值：例如平均值、最大值、最小值、标准偏差、放电时间等)；数据保存单元(40)，将该加工出的概要数据保存到存储部件；显示·输出单元(50)，对保存在存储部件中的概要数据进行图表显示。
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