改性酚醛清漆型酚醛树脂、抗蚀材料、涂膜和抗蚀永久膜

    公开(公告)号:CN105190439B

    公开(公告)日:2019-05-17

    申请号:CN201480015445.5

    申请日:2014-01-21

    Abstract: 本发明提供一种显影性及耐热性优异的改性酚醛清漆型酚醛树脂、及其制造方法、感光性组合物、抗蚀材料和永久膜。改性酚醛清漆型酚醛树脂的特征在于,具有:下述结构式(1)〔式中,Ar为下述结构式(2‑1)或(2‑2)(式中k为0~2的整数,p为1~5的整数,q为1~7的整数,R3为氢原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中任意者)所示的结构部位,R1、R2分别为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中任意者,m、n分别为1~4的整数〕所示的芳香族化合物(A)与醛化合物(B)进行缩合而得到的酚醛清漆型酚醛树脂(C)所具有的酚性羟基的氢原子的一部分或全部被酸离解性基团取代的分子结构。

    正型光致抗蚀剂组合物
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103210349B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201180054437.8

    申请日:2011-10-25

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有甲酚酚醛清漆树脂(A)和酚醛清漆型酚醛树脂(B),所述甲酚酚醛清漆树脂(A)是以间甲酚、对甲酚和甲醛为必需原料制造的,所述酚醛清漆型酚醛树脂(B)是以邻甲酚、间苯二酚和甲醛为必需原料制造的。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作在由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的抗蚀剂。

    正型光致抗蚀剂组合物
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103270451A

    公开(公告)日:2013-08-28

    申请号:CN201180054438.2

    申请日:2011-10-25

    CPC classification number: G03F7/004 C08G8/04 C08G8/20 C08L61/12 G03F7/0236

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有将下述通式(1)或(2)所示的芳香族化合物(A)和脂肪族醛(B)缩聚而得到的酚醛清漆型酚醛树脂(C)作为必需成分。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的正型光致抗蚀剂。(式中,R1、R2和R3分别独立地为碳原子数1~8的烷基。另外,m、n和p分别独立地为0~4的整数,q为1~(5-p)的整数,s为1~(9-p)的整数。)

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