微型结构及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1198756C

    公开(公告)日:2005-04-27

    申请号:CN01811127.0

    申请日:2001-06-13

    CPC classification number: B81B3/0086 B81B2203/033 B81C2201/016

    Abstract: 本发明涉及一种在最好是导电基片(1)、特别是由单晶掺杂的硅构成的基片中的微型结构,它具有至少一个功能元件(2.1,2.2),本发明还涉及这种微型结构的制造方法。按照本发明,功能元件(2.1,2.2)通过隔离间隙(5,5a)机械上和电气上在所有侧面从基片(1)分离,并且在至少一个位置上与一个导电的、且通过隔离层(3)与基片(1)电气绝缘的层(S)的第一结构(4a)相连接,并通过此连接相对定位在基片(1)上。为此功能元件(2.1,2.2)如此由基片(1)分离出来;对基片(1)在所有侧面上设置隔离间隙(5,5a)。导电层(S)如此被涂覆:它通过例如连接指(4a)与功能元件(2.1,2.2)相连接,并且将功能元件可靠地定位。采用本发明的方法,制造过程被明显简化了,并且制造出仅有很小的寄生电容的微型结构。

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