公开(公告)号：CN101631746B

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200880008227.3

申请日：2008-03-19

Applicant: 韩国电子通信研究院

Inventor： 金基出 ,  孟成烈 ,  申成镇 ,  康大峻

IPC: C01G19/00

CPC classification number: C01G19/00 ,  C01P2002/70 ,  C01P2002/84 ,  C01P2004/03 ,  C01P2006/40 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  G03F7/0042 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明提供合成ITO电子束光刻胶的方法和形成ITO图案的方法。通过将四水合氯化铟和二水合氯化锡溶解在2-乙氧基乙醇中而合成所述ITO电子束光刻胶。形成ITO图案的方法包括：在衬底上形成ITO电子束光刻胶膜；通过将所述ITO电子束光刻胶膜图案化而形成ITO电子束光刻胶图案；和通过对所述ITO电子束光刻胶图案进行退火而形成ITO图案。

公开(公告)号：CN101631746A

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200880008227.3

申请日：2008-03-19

Applicant: 韩国电子通信研究院

Inventor： 金基出 ,  孟成烈 ,  申成镇 ,  康大峻

IPC: C01G19/00

CPC classification number: C01G19/00 ,  C01P2002/70 ,  C01P2002/84 ,  C01P2004/03 ,  C01P2006/40 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  G03F7/0042 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明提供合成ITO电子束光刻胶的方法和形成ITO图案的方法。通过将四水合氯化铟和二水合氯化锡溶解在2-乙氧基乙醇中而合成所述ITO电子束光刻胶。形成ITO图案的方法包括：在衬底上形成ITO电子束光刻胶膜；通过将所述ITO电子束光刻胶膜图案化而形成ITO电子束光刻胶图案；和通过对所述ITO电子束光刻胶图案进行退火而形成ITO图案。