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公开(公告)号:CN114650895B
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202080077635.5
申请日:2020-03-30
Applicant: 韩商未来股份有限公司
Inventor: 柳在渊 , 李起宪 , 韩政烈 , 朴荣熺 , 柳成坤
IPC: B24B7/22 , B24B55/06 , B24B57/02
Abstract: 本发明提供研磨系统。本发明提供一种包括研磨单元的研磨系统,所述研磨单元包括具有互不相同尺寸的磨料颗粒的研磨轮部,使所述研磨轮部以旋转轴为中心旋转而沿斜线方向研磨待加工物的待加工面。
公开(公告)号:CN114650895A
公开(公告)日:2022-06-21