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发明公开
通过近红外高光谱成像进行测量的薄膜厚度测量仪无效

公开(公告)号：CN113424017A

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN202080013905.6

申请日：2020-01-22

Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司

Inventor： X·陈 , J·王 , M·M·毕晓普 , C·M·瑟伯 , M·本尼迪克特 , H·金 , E·L·马驰班克斯 , K·W·奥尔森

IPC: G01B11/06 , B29C48/10 , B29C48/92

Abstract: 本发明教导包含测量整个薄膜厚度的方法。所述方法可以包含形成聚合物薄膜(10)以及用同时采集多个点的空间图像和光谱图像的相机(20)来测量所述薄膜(10)的厚度。所述相机可以从所述薄膜的某条线采集线图像。所述相机可以是高光谱近红外相机。在分析在所述测量步骤期间采集的原始数据时，可以使用经典最小二乘分析来校正所述原始数据的条纹。

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