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公开(公告)号:CN104561919B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201410850475.X
申请日:2014-12-31
Applicant: 陕西科技大学
Abstract: 一种CoTiO3纳米阵列湿敏薄膜制备方法,向氯化钴水溶液中加入TiCl3的盐酸溶液,得到混合溶液A;调节混合溶液A的pH值至6‑10,获得前驱体溶液B;将前驱体溶液B移入水热反应釜中,然后将清洗过的硅基片浸入其中反应,接着将将硅基片冲洗干净,在硅基片上得到薄膜C;将带有薄膜C的硅基片装于磁控溅射仪的样品台,采用Co2O3射频靶和TiO2射频靶进行磁控溅射,以在硅基片上形成薄膜D;将带有薄膜D的硅基片在600℃‑750℃保温,得到CoTiO3纳米阵列湿敏薄膜。该方法能够有效地调控薄膜的形貌,成膜性好,操作方便,生产周期短,效率高,适于工业生产,所制得的CoTiO3薄膜在室温下表现出优异的湿敏性,且响应恢复时间短。
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公开(公告)号:CN104561919A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201410850475.X
申请日:2014-12-31
Applicant: 陕西科技大学
Abstract: 一种CoTiO3纳米阵列湿敏薄膜制备方法,向氯化钴水溶液中加入TiCl3的盐酸溶液,得到混合溶液A;调节混合溶液A的pH值至6-10,获得前驱体溶液B;将前驱体溶液B移入水热反应釜中,然后将清洗过的硅基片浸入其中反应,接着将硅基片冲洗干净,在硅基片上得到薄膜C;将带有薄膜C的硅基片装于磁控溅射仪的样品台,采用Co2O3射频靶和TiO2射频靶进行磁控溅射,以在硅基片上形成薄膜D;将带有薄膜D的硅基片在600℃-750℃保温,得到CoTiO3纳米阵列湿敏薄膜。该方法能够有效地调控薄膜的形貌,成膜性好,操作方便,生产周期短,效率高,适于工业生产,所制得的CoTiO3薄膜在室温下表现出优异的湿敏性,且响应恢复时间短。
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