一种基于旋转阴极双脉冲电沉积Co-WZrO2涂覆层的制备方法

    公开(公告)号:CN118516718A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202410863761.3

    申请日:2024-06-29

    Abstract: 本发明提供了一种基于旋转阴极双脉冲电沉积Co‑WZrO2涂覆层的制备方法,选取铜板为电沉积阴极基材,钴板作为电沉积阳极基材,二氧化锆颗粒作为电沉积过程添加剂,铜板连接旋转阴极,钴板固定在电镀槽上,阴极和阳极同时浸泡在电镀液中,采用双脉冲电源电沉积制备Co‑W/ZrO2涂覆层。所述双脉冲电沉积工艺参数为:电沉积时间为120‑140min,正向电流密度为1.5‑2.5A/dm2,正向占空比30‑45%,正向周期为7‑9 ms,逆向电流密度为0.01‑0.03A/dm2,逆向占空比15‑25%,逆向周期为1.5‑2.5 ms;所述电沉积温度为25~50℃。本发明Co‑W/ZrO2涂覆层表面光亮平整,Co‑W/ZrO2涂覆层晶粒更加细化,Co‑W/ZrO2涂覆层与基材结合力强、Co‑W/ZrO2涂覆层制备简单,沉积速度快、Co‑W/ZrO2涂覆层耐腐蚀、耐高温。

    一种内进流膜格栅清洗装置

    公开(公告)号:CN222918193U

    公开(公告)日:2025-05-30

    申请号:CN202421751199.7

    申请日:2024-07-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种内进流膜格栅清洗装置,包括框架,所述框架的顶部固定连接有储液箱,所述框架的右侧固定安装有驱动机主体,所述框架的内腔通过转轴固定安装有膜格栅板,所述膜格栅板表面的两侧均固定连接有推动凸板,所述框架的前侧设置有外侧清洁机构,所述框架的内腔且位于膜格栅板的内侧设置有内侧清洁机构。本实用新型能有效解决格栅部件的内侧会大量垃圾及颗粒物粘黏的问题,在格栅部件运行时能够防止格栅部件上的孔径被颗粒物堵塞,以防格栅部件有过水不畅的现象出现,同时也能够防止格栅部件的表面有油膜凝结,以此避免有油膜影响到格栅部件的过水效率,防止后端处理设备有补水不及时的现象出现。

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