一种镁合金复合强韧化消振梯度膜层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116752214A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310727157.3

    申请日:2023-06-19

    Applicant: 长安大学

    Abstract: 本发明公开了一种镁合金复合强韧化消振梯度膜层及其制备方法和应用,属于复合膜层领域。本发明的复合膜层制备方法,通过在反应过程中调控占空比控制晶体生长时间实现含非晶和立方相ZrO2晶体膜层的生成,与MgO、MgF2共同组成复合膜层。MgO和MgF2因生成温度较低、反应速度快而受占空比影响较小。复合膜层表层具有较高的强度硬度,能够有效耐冲击;内层具有更低的储能模量和更高的损耗模量,缓解了膜基力学性能不匹配的问题,还能够有效地增加膜层的消振性能,在冲击和振动工况下工作的变速箱壳体等工件表面具有极大的发展潜力。

    一种镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113089053B

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202110336594.3

    申请日:2021-03-29

    Applicant: 长安大学

    Abstract: 本发明公开了一种镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层及其制备方法,属于复合膜层领域。本发明的镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层的制备方法,微弧放电提供的瞬间高温,MgO进入t‑ZrO2体形成固溶体,稳定t‑ZrO2不发生晶型转变;当MgO在ZrO2中固溶饱和后,多余的MgO以独立的晶相出现,快冷使放电区的MgO、ZrO2及固溶体的熔体快速冷却形成ZrO2/MgO膜层;采用微弧放电在镁合金表面原位生长具有微孔结构的膜层,微孔结构的膜层与基体结合方式为冶金结合,微孔膜层为原位生长,因此界面的结合力较好。

    一种镁合金的高强高韧膜层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113089052A

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202110336590.5

    申请日:2021-03-29

    Applicant: 长安大学

    Abstract: 本发明公开了一种镁合金的高强高韧膜层及其制备方法,属于微弧氧化领域。本发明的镁合金的高强高韧膜层的制备方法,采用微弧放电在镁合金表面进行原位生长生成具有微孔结构的膜层,在微弧放电的过程中钇盐‑锆盐体系电解液将在镁合金上生成Y2O3,Y2O3作为晶型稳定剂,促使生成t‑ZrO2和c‑ZrO2不易发生晶型转变,降低了晶型转变过程中微裂纹的出现,改善了表面强韧条件,进而提高微弧氧化膜层的表面致密性,起到了增强增韧的效果,微孔结构的膜层与基体结合方式为冶金结合,微孔结构为原位生长,因此界面的结合力较好。

    一种镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113089053A

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202110336594.3

    申请日:2021-03-29

    Applicant: 长安大学

    Abstract: 本发明公开了一种镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层及其制备方法,属于复合膜层领域。本发明的镁合金上的ZrO2/MgO耐磨膜层的制备方法,微弧放电提供的瞬间高温,MgO进入t‑ZrO2体形成固溶体,稳定t‑ZrO2不发生晶型转变;当MgO在ZrO2中固溶饱和后,多余的MgO以独立的晶相出现,快冷使放电区的MgO、ZrO2及固溶体的熔体快速冷却形成ZrO2/MgO膜层;采用微弧放电在镁合金表面原位生长具有微孔结构的膜层,微孔结构的膜层与基体结合方式为冶金结合,微孔膜层为原位生长,因此界面的结合力较好。

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