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公开(公告)号：CN114952641B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202210682426.4
申请日：2022-06-16
Applicant: 长安大学
Abstract: 本发明公开了一种模块化分布式平面磨盘，通过在磨盘本体的端面上设置大齿模块分布区域和小齿模块分布区域，大齿模块分布区域和小齿模块分布区域均沿渐开线沟槽设置，大齿模块分布区域两侧的渐开线沟槽之间的宽度大于小齿模块分布区域两侧的渐开线沟槽之间的宽度；大齿模块分布区域沿磨盘本体圆周方向阵列设置多个，相邻两个大齿模块分布区域之间设置多个小齿模块分布区域，大齿模块分布区域和小齿模块分布区域内均设置齿型模块；通过在磨盘需上采用沟槽结构同时结合齿型模块，进行了磨削表面结构优化，有效避免切屑对工件表面的二次划伤，减少磨削液及磨屑的流动、排出受阻问题，进而获得较高的表面质量。
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公开(公告)号：CN114952641A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210682426.4
申请日：2022-06-16
Applicant: 长安大学
Abstract: 本发明公开了一种模块化分布式平面磨盘，通过在磨盘本体的端面上设置大齿模块分布区域和小齿模块分布区域，大齿模块分布区域和小齿模块分布区域均沿渐开线沟槽设置，大齿模块分布区域两侧的渐开线沟槽之间的宽度大于小齿模块分布区域两侧的渐开线沟槽之间的宽度；大齿模块分布区域沿磨盘本体圆周方向阵列设置多个，相邻两个大齿模块分布区域之间设置多个小齿模块分布区域，大齿模块分布区域和小齿模块分布区域内均设置齿型模块；通过在磨盘需上采用沟槽结构同时结合齿型模块，进行了磨削表面结构优化，有效避免切屑对工件表面的二次划伤，减少磨削液及磨屑的流动、排出受阻问题，进而获得较高的表面质量。
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公开(公告)号：CN115056080B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202210682414.1
申请日：2022-06-16
Applicant: 长安大学
IPC: B24B13/01
Abstract: 本发明公开了一种弹性磨抛工具，通过在抛光头的圆弧面上设置有多个磨削孔；抛光的另一端为夹持端，用于与连接磨削固定装置连接，抛光头的另一端上设有混合槽，抛光头的圆弧面上的多个磨削孔与混合槽通过根系通道连通，基于抛光头内部的管道间的根系通道决定抛光头对磨削液及磨料的利用效率原理，解决磨削过程中磨削液及磨料由于磨削时局部紧密贴合和抛光头高速旋转导致的磨削液被甩开难以进入磨削区域的缺点，能够合理利用离心力使磨削液更加均匀的散布在工件表面，采用混合槽使磨削液和磨料充分混合，汇集混合后的磨削液并由此开始分流，充分利用高速旋转的惯性力时，减小出口流量，使磨削液随运动轨迹填附而行，保证磨削均匀性。
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公开(公告)号：CN115056080A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202210682414.1
申请日：2022-06-16
Applicant: 长安大学
IPC: B24B13/01
Abstract: 本发明公开了一种弹性磨抛工具，通过在抛光头的圆弧面上设置有多个磨削孔；抛光的另一端为夹持端，用于与连接磨削固定装置连接，抛光头的另一端上设有混合槽，抛光头的圆弧面上的多个磨削孔与混合槽通过根系通道连通，基于抛光头内部的管道间的根系通道决定抛光头对磨削液及磨料的利用效率原理，解决磨削过程中磨削液及磨料由于磨削时局部紧密贴合和抛光头高速旋转导致的磨削液被甩开难以进入磨削区域的缺点，能够合理利用离心力使磨削液更加均匀的散布在工件表面，采用混合槽使磨削液和磨料充分混合，汇集混合后的磨削液并由此开始分流，充分利用高速旋转的惯性力时，减小出口流量，使磨削液随运动轨迹填附而行，保证磨削均匀性。
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