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公开(公告)号：CN118047709A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202311688186.X
申请日：2023-12-08
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: C07D207/337 , C08F265/06 , C08F220/36 , C08F2/48
Abstract: 本发明涉及一种溶液掩膜分子及其制备方法和应用，属于光固化材料技术领域。本发明公开的溶液掩膜分子自身分子主骨架对自然光稳定，且在紫外吸收波段具有较大的摩尔消光系数，能够优先屏蔽自然光，从而保护光引发剂的活性，起到耐自然光贮存的问题；而在高强度固化光源下，溶液掩膜分子发生光二聚反应，使摩尔消光系数降低并诱导光引发剂吸光产生自由基，实现材料迅速被固化。本发明解决了现有技术中光固化材料无法实现耐自然光贮存的问题。#imgabs0#
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